[發明專利]一種細干粒陶瓷磚及其制備方法、細干粒釉

有效

• 申請號: 201911387526.9
• 申請日: 2019-12-30
• 公開（公告）號: CN111116235B
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發明（設計）人: 謝岳榮;霍振輝;徐鵬飛;鐘鵬
• 申請（專利權）人: 肇慶樂華陶瓷潔具有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/89;B24B1/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 胡楓;李素蘭

1.一種細干粒釉，其特征在于，其按照重量份計包括以下原料：細干粒5-15份，膠水35-50份，釉漿35-50份；

其中，所述細干粒按質量百分數計的化學成分為：SiO₂ 29～33％、Al₂O₃45～52％、Fe₂O₃1～2.35％、TiO₂ 0.2～0.5％、CaO 0.6～1.5％、MgO 0.8～1.7％、K₂O2～4.5％、Na₂O 1.5～2％、ZnO 1.8～2.6％、BaO 0.5～1％、LOI 4～6.5％；

所述細干粒的粒度≤250目；

所述釉漿按質量百分數計的化學成分為：SiO₂ 49～55％、Al₂O₃ 11.8～15％、Fe₂O₃ 0.1～0.2％、TiO₂ 0.2～0.5％、CaO 2.6～5％、MgO 6.5～9％、K₂O 2.7～3.8％、Na₂O 3.5～5％、ZnO 2～4％、SrO₂ 1～3％、BaO 0.5～1％、LOI 3～6％。

2.如權利要求1所述的細干粒釉，其特征在于，所述膠水選用纖維素醚的水溶液；所述細干粒釉的比重為1.3-1.5g/mL，流速為30～35s。

3.如權利要求1所述的細干粒釉，其特征在于，所述細干粒的粒度為250-350目。

4.一種細干粒陶瓷磚，其特征在于，其含有如權利要求1-3任一項所述的細干粒釉形成的細干粒釉層。

5.一種如權利要求4所述的細干粒陶瓷磚的制備方法，其特征在于，包括：

(1)制備陶瓷坯體；

(2)在陶瓷坯體表面施底釉；

(3)在步驟(2)得到的坯體表面施加如權利要求1-3任一項所述的細干粒釉；

(4)將步驟(3)所得的陶瓷坯體燒成，并拋光后得到細干粒陶瓷磚成品；

其中，所述細干粒陶瓷磚包括陶瓷磚坯體以及依次設于所述陶瓷磚坯體上的由底釉燒成后得到的底釉層和由細干粒釉經燒成、拋光后得到的細干粒釉層。

6.如權利要求5所述的細干粒陶瓷磚的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，細干粒釉的施釉量為400-800g/m²。

7.如權利要求5所述的細干粒陶瓷磚的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述底釉燒成后整體上呈深灰色、黑色或灰黑色；所述底釉的比重為1.8～1.9g/mL，流速為40～50s，底釉的施釉量為350～400g/m²。

8.如權利要求5所述的細干粒陶瓷磚的制備方法，其特征在于，所述底釉層厚度為0.4～0.5mm，細干粒釉層的厚度為0.5～0.6mm。

9.如權利要求5所述的細干粒陶瓷磚的制備方法，其特征在于，步驟(4)包括：

(4.1)將步驟(3)所得的陶瓷坯體在1180～1210℃下燒成，得到陶瓷磚坯體；

(4.2)采用100-500目的尼龍金剛石磨片對陶瓷磚坯體進行粗拋；

(4.3)采用600-2000目的樹脂磨片對陶瓷磚坯體進行精拋，得到細干粒陶瓷磚成品。