[發明專利]一種使多晶硅中磷元素均勻分布的裝置

有效

• 申請號: 201911383665.4
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN110886016B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發明（設計）人: 李鵬廷;胡志強;王子龍;譚毅;姜大川
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: C30B28/06
• 分類號: C30B28/06;C30B29/06
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 周媛媛;李馨

1.一種使多晶硅中磷元素均勻分布的裝置，其特征在于，所述裝置具有縱截面為矩形的爐殼(1)，爐殼(1)內設有縱截面為“凹”字型的保溫層(3)，保溫層(3)與爐殼(1)不接觸，保溫層(3)內部設有縱截面為“U”字型的石墨坩堝(4)，石墨坩堝(4)內裝有硅溶液(5)，石墨坩堝(4)與保溫層(3)不接觸，石墨坩堝(4)底部外側通過穿過保溫層(3)的坩堝推進支座(6)與爐殼(1)底部內壁相連，保溫層(3)頂面內側設有數個石墨加熱體(2)；

硅溶液(5)形成多晶硅(10)時，保溫層(3)頂面內側向下凸出，凸出面上的石墨加熱體(2)使硅溶液(5)中心位置的溫度高于邊緣的溫度，邊緣凝固速度高于中心位置，多晶硅(10)面為邊緣高于中心，保持固液界面形狀為凹形，促使邊緣位置的磷原子(9)向中心位置排出。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，爐殼(1)為圓柱體、長方體中的一種。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，保溫層(3)為圓柱體、長方體中的一種。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，石墨坩堝(4)為圓柱體、長方體中的一種。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，坩堝推進支架(6)為柱狀且與石墨坩堝(4)的底面、爐殼(1)底面垂直。