[發明專利]一種拼接物鏡的劑量控制裝置、方法和曝光設備

有效

• 申請號: 201911382714.2
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN113050381B
• 公開（公告）日: 2022-04-26
• 發明（設計）人: 吳衛軍;牛飛龍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種拼接物鏡的劑量控制裝置，用于曝光設備，其特征在于，包括控制單元和至少一個具有透光狹縫的遮光擋板，所述遮光擋板活動設置于所述曝光設備上，沿光路傳播方向，所述遮光擋板設置于曝光光源和拼接物鏡之間；

所述拼接物鏡包括若干個子物鏡；

所述控制單元與所述遮光擋板連接，用于控制所述遮光擋板的移動速度和位置，使得所有所述子物鏡的視場被所述遮光擋板同時遮擋或被所述透光狹縫同時暴露；

在所有所述子物鏡的視場被所述透光狹縫同時暴露時，所述控制單元還用于控制所述曝光裝置曝光。

2.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，當所有所述子物鏡的視場被所述遮光擋板同時遮擋時，所述遮光擋板以第一速度掃描式移動；

當被所有所述子物鏡的視場被所述透光狹縫同時暴露時，所述遮光擋板以第二速度掃描式移動。

3.根據權利要求2所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述遮光擋板的第二速度根據以下公式獲得，

其中，V為所述遮光擋板的移動速度，L為所述透光狹縫的寬度，T為所述曝光時間。

4.根據權利要求3所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述曝光時間根據以下公式獲得，

其中，Dose為曝光劑量，I為當前照度。

5.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述遮光擋板為一條狀結構，所述透光狹縫位于所述遮光擋板的中部，所述遮光擋板的寬度大于所述拼接物鏡的視場寬度。

6.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述透光狹縫為一條形結構，所述透光狹縫的寬度小于所述拼接物鏡的視場寬度。

7.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述透光狹縫有多個，沿光路傳播方向，每個所述透光狹縫使得一個或多個所述子物鏡透光，所有所述透光狹縫使得所有所述子物鏡同時透光。

8.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述遮光擋板所在的平面與光路傳播方向相交。

9.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述遮光擋板所在的平面垂直于所述光路傳播方向。

10.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述遮光擋板和所述透光狹縫一體成型。

11.根據權利要求1所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述遮光擋板包括第一遮光部、第二遮光部和可拆卸連接所述第一遮光部和所述第二遮光部的調節固定結構；

所述透光狹縫位于所述第一遮光部和所述第二遮光部之間，所述調節固定結構用于調節所述透光狹縫的寬度。

12.根據權利要求11所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，其特征在于，所述調節固定結構與所述控制單元連接，所述控制單元控制所述調節固定結構的調節時機和所述透光狹縫的寬度。

13.一種曝光設備，其特征在于，包括至少一個如權利要求1-12任一項所述的拼接物鏡的劑量控制裝置，所述曝光設備包括曝光光源、掩模版、掩模臺、至少一個拼接物鏡和工件臺；

沿光路傳播方向，依次為所述曝光光源、所述掩模版、所述遮光擋板、所述掩模臺、所述拼接物鏡、工件臺以及掩模臺框架；所述掩模臺固定設置于所述掩模臺框架上；

所述遮光擋板活動設置于所述掩模臺框架上，所述遮光擋板所在的平面與所述光路傳播方向相交。