[發明專利]一種除硅裝置及除硅方法

在審

• 申請號: 201911381340.2
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN111056670A
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 慕史臣
• 申請（專利權）人: 淄博格瑞水處理工程有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F101/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種除硅裝置，包括含硅廢水池、二氧化硅反應沉淀器、大通量精密過濾器、NF裝置、清洗水箱和產品水箱；所述含硅廢水池通過管道連通二氧化硅反應沉淀器，所述二氧化硅反應沉淀器通過管道依次連通大通量精密過濾器和NF裝置，所述NF裝置濃水通過反應區內設置的布水器回到反應區內，所述NF裝置產水連通產品水箱；所述二氧化硅反應沉淀器包括反應區、沉降區和凈水區，所述反應區內設置有布水器，所述布水器入水口通過管道連通NF裝置，所述二氧化硅反應沉淀器還通過管道連通清洗水箱，所述清洗水箱通過管道連通NF裝置。本發明提供的除硅裝置及除硅方法，經過沉淀、NF裝置循環濃縮過濾，除硅效果優異，可以明顯的去除工業廢水中的二氧化硅等。

技術領域

本發明涉及工業廢水除硅技術領域，具體涉及一種除硅裝置及除硅方法。

背景技術

除硅(desilication,silica removal)采用離子交換或其他方法除掉水中二氧化硅的過程。工業用水中的硅化合物會對生產過程產生不同程度的危害。工業鍋爐補給水、地熱水和冷卻水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密堅硬，難于用普通的方法清洗，嚴重影響設備的傳熱效率以及安全運行；電子工業用水中，二氧化硅會對在單晶硅表面生產半導體造成極大危害，降低電子管及固體電路的質量；在造紙工業用水中，二氧化硅含量過高，將使紙質變脆；在人造絲工業用水中，硅酸含量過高將影響纖維強度和粘膠的粘度；在濕法冶金用水中，為此在不同的給水處理系統中，均需充分考慮硅的脫除。

為了解決上述問題，亟需發明一種除硅裝置及除硅方法，以解決工業水中二氧化硅的除去問題。

發明內容

本發明的目的在于提供。

為達到上述目的，本發明采用的技術方案如下：

一種除硅裝置，包括含硅廢水加藥區(1)、二氧化硅反應沉淀器(2)、大通量精密過濾器(3)、NF裝置(4)、清洗水箱(5)和產品水箱(6)；

所述含硅廢水加藥區(1)通過管道連通二氧化硅反應沉淀器(2)，所述二氧化硅反應沉淀器(2)通過管道依次連通大通量精密過濾器(3)和NF裝置(4)，所述NF裝置(4)連通產品水箱(6)；

所述二氧化硅反應沉淀器(2)包括反應區(21)、沉降區(22)和凈水區(23)，所述反應區(21)內設置有布水器(24)，所述布水器(24)入水口通過管道連通NF裝置(4)，所述二氧化硅反應沉淀器(2)還通過管道連通清洗水箱(5)，所述清洗水箱(5)通過管道連通NF裝置(4)。

進一步的，所述含硅廢水加藥區(1)內設置有PH調節裝置(11)和氧化鎂加料裝置(12)，所述PH調節裝置(11)和氧化鎂加料裝置(12)內均設置有攪拌器(13)。

進一步的，所述沉降區(22)和凈水區(23)通過管道連接排污閥(25)，通過排污閥(25)將沉降區(22)和凈水區(23)產生的沉淀物排出。

進一步的，所述二氧化硅反應沉淀器(2)通過增壓泵(31)將經沉淀后的廢水輸送到大通量精密過濾器(3)，所述大通量精密過濾器(3)通過高壓泵(32)將廢水輸送到NF裝置(4)。

進一步的，所述二氧化硅反應沉淀器(2)與增壓泵(31)之間設置第一電動閥(41)，所述二氧化硅反應沉淀器(2)與清洗水箱(5)之間設置第二電動閥(42)，所述二氧化硅反應沉淀器(2)與清洗水箱(5)之間連通的管道位于第一電動閥(41)和增壓泵(31)之間。

進一步的，所述清洗水箱(5)與NF裝置之間設置第三電動閥(43)。

進一步的，所述布水器(24)與NF裝置(4)之間的管道上設置有調節閥(51)。

進一步的，所述布水器(24)與NF裝置(4)之間的管道上還設置沖洗閥(52)，所述調節閥(51)與沖洗閥(52)為并聯設計。