[發明專利]具有風化檢測像素的成像系統

在審

• 申請號: 201911370855.2
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN111614917A
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: R·S·約翰森
• 申請（專利權）人: 半導體元件工業有限責任公司
• 主分類號: H04N5/369
• 分類號: H04N5/369;H04N5/341;H04N17/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張丹

1.一種圖像傳感器，包括：

像素陣列，所述像素陣列被配置為生成圖像信號，其中所述像素陣列包括第一組像素和第二組像素，并且其中所述第二組像素被配置為比所述第一組像素更耐受太陽光退化；和

處理電路，所述處理電路被配置為接收生成的所述圖像信號以及比較由所述第一組像素生成的圖像信號和由所述第二組像素生成的圖像信號。

2.根據權利要求1所述的圖像傳感器，其中所述第一組像素和所述第二組像素中的像素中的每個像素與光學疊堆重疊，其中每個光學疊堆包括濾色器抗蝕劑，其中所述第一組像素的每個像素與具有由第一顏料形成的第一濾色器抗蝕劑的第一光學疊堆重疊，并且所述第二組像素的每個像素與具有由不同于所述第一顏料的第二顏料形成的第二濾色器抗蝕劑的第二光學疊堆重疊，并且其中所述第二顏料比所述第一顏料更耐受太陽光退化。

3.根據權利要求1所述的圖像傳感器，其中所述第一組像素和所述第二組像素中的像素中的每個像素與光學疊堆重疊，其中每個光學疊堆包括濾色器抗蝕劑，其中所述第一組像素的每個像素與具有防反射涂層的第一光學疊堆重疊，其中所述第二組像素中的每個像素與不具有防反射涂層的第二光學疊堆重疊，其中每個第一光學疊堆的所述濾色器抗蝕劑插置在所述防反射涂層與所述第一組像素的相應像素之間，并且其中所述防反射涂層由二氧化硅形成。

4.根據權利要求1所述的圖像傳感器，其中所述處理電路被配置為響應于確定由所述第一組像素生成的所述圖像信號與由所述第二組像素生成的所述圖像信號不匹配而輸出警示信號，其中所述第二組像素中的像素散布在整個所述像素陣列的所述第一組像素中的像素之間，并且其中所述第二組像素包括至少兩個像素的分組。

5.一種成像系統，包括：

圖像傳感器，所述圖像傳感器包括被配置為響應于入射光而生成電荷的像素陣列，其中所述像素陣列包括與第一光學疊堆重疊的第一像素和與不同于所述第一光學疊堆的第二光學疊堆重疊的第二像素；和

處理電路，所述處理電路被配置為接收來自所述第一像素和所述第二像素的輸出以及比較所述第一像素的輸出和所述第二像素的輸出。

6.根據權利要求5所述的成像系統，其中所述第一光學疊堆包括防反射涂層，其中所述第二光學疊堆不包括防反射涂層，并且其中所述處理電路被配置為響應于確定所述第一像素和所述第二像素的輸出在差值閾值內不匹配而輸出警示。

7.根據權利要求5所述的成像系統，其中所述第一光學疊堆包括第一組顏料，其中所述第二光學疊堆包括不同于所述第一組顏料的第二組顏料，其中所述第一像素是主要像素，其中所述第二像素是參考像素，并且其中所述第二組顏料比所述第一組顏料更耐受風化。

8.一種操作成像系統以確定圖像像素陣列中的圖像像素是否已劣化的方法，所述方法包括：

利用所述圖像像素陣列中的第一組圖像像素和第二組圖像像素，響應于入射光而生成電荷并將生成的所述電荷輸出至處理電路；

利用所述處理電路，接收來自所述第一組圖像像素和所述第二組圖像像素的輸出；以及

利用所述處理電路，確定來自所述第一組圖像像素的輸出是否與來自所述第二組圖像像素的輸出匹配。

9.根據權利要求8所述的方法，還包括：

響應于確定來自所述第一組圖像像素的輸出與來自所述第二組圖像像素的輸出不匹配，對所述成像系統進行標記以指示所述圖像像素中的至少一些已經劣化，其中：

確定來自所述第一組圖像像素的輸出是否與來自所述第二組圖像像素的輸出匹配包括確定來自所述第一組圖像像素和所述第二組圖像像素的輸出是否在差值閾值內匹配。

10.根據權利要求8所述的方法，還包括：

在確定來自所述第一組圖像像素的輸出是否與來自所述第二組圖像像素的輸出匹配之前，利用所述處理電路來確定來自所述第一組圖像像素的第一分組圖像像素的輸出是否與來自所述第一組圖像像素的第二分組圖像像素的輸出匹配，以及確定來自所述第二組圖像像素的第一分組圖像像素的輸出是否與來自所述第二組圖像像素的第二分組圖像像素的輸出匹配，其中：

確定來自所述第一組圖像像素的輸出是否與來自所述第二組圖像像素的輸出匹配包括響應于確定來自所述第一組圖像像素的第一分組圖像像素和第二分組圖像像素的輸出匹配以及來自所述第二組圖像像素的第一分組圖像像素和第二分組圖像像素的輸出匹配而確定來自所述第一組圖像像素的輸出是否與來自所述第二組圖像像素的輸出匹配。