[發(fā)明專利]一種淋釉器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911364304.5
• 申請(qǐng)日: 2019-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN111116230A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 廖紹基;黃彬成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廖紹基
• 主分類號(hào): C04B41/86
• 分類號(hào): C04B41/86
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 胡楓;周應(yīng)勛

本發(fā)明公開了一種淋釉器，包括淋釉機(jī)構(gòu)和向所述淋釉機(jī)構(gòu)供釉漿的蓄釉槽，所述蓄釉槽內(nèi)設(shè)有用于防止釉漿凝結(jié)的攪動(dòng)裝置；其中，所述淋釉機(jī)構(gòu)包括設(shè)有用于導(dǎo)出釉漿的淋釉板和與所述淋釉板對(duì)應(yīng)設(shè)置的載釉滾筒，所述蓄釉槽內(nèi)的釉漿通過粘附轉(zhuǎn)動(dòng)的載釉滾筒，移至所述淋釉板處。采用本發(fā)明，淋釉穩(wěn)定均勻，可控制淋釉量，而且能有效防止釉漿的凝結(jié)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種淋釉器。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的淋釉技術(shù)，一般為鐘罩式淋釉技術(shù)和直線式淋釉技術(shù)。對(duì)于鐘罩式淋釉方式，其釉漿經(jīng)鐘罩面的均化緩流后再對(duì)磚胚進(jìn)行淋釉處，但鐘罩的淋釉邊緣為圓弧線(非直線)，故在淋釉的過程中會(huì)導(dǎo)致磚胚的中部釉漿量比兩側(cè)少，從而使磚胚的釉面厚度不均勻。特別是，用于噴墨打印機(jī)加工的瓷磚，其對(duì)磚面(釉面)的平整度要求高。同時(shí)鐘罩式的施釉量不能過小，否則釉漿比重過低或流動(dòng)性過小時(shí)容易在鐘罩面上形成波紋，且不容易形成釉幕(沒粘性)。

而對(duì)于直線式淋釉技術(shù)，由于其采用的出釉方式是通過對(duì)釉漿加壓然后通過一縫隙噴出，雖然該淋釉方式能較為均勻地在磚胚上淋釉，但該方式不僅容易堵塞釉嘴，而且，經(jīng)過加壓噴出的釉漿其出釉的狀態(tài)屬于湍流狀態(tài)，其淋釉于磚胚面時(shí)沖擊大，會(huì)出現(xiàn)釉面不順滑和條紋等問題。同時(shí)噴釉口的間隙不僅對(duì)淋釉量的直接影響關(guān)系大，而且難以均勻地調(diào)整。

另一方面，釉漿屬于易于凝結(jié)物，特別是，靜止?fàn)顟B(tài)或流動(dòng)過慢的釉漿特別容易凝結(jié)。

上述兩種淋釉技術(shù)的淋釉量的控制精度低，如從釉漿輸出源頭方面上控制，所述鐘罩式是通過改變淋與鐘罩面的泵釉量，直線式是通過改變噴釉壓力。故現(xiàn)有淋釉量的控制一般為在淋釉設(shè)備穩(wěn)定工作狀態(tài)下，根據(jù)實(shí)際淋釉量的測(cè)算而改變用于運(yùn)輸磚胚的運(yùn)輸帶的運(yùn)輸速度(淋釉時(shí)間)進(jìn)行調(diào)控。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種淋釉器，淋釉穩(wěn)定均勻，可更精準(zhǔn)地控制淋釉量，而且能有效防止釉漿的凝結(jié)。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種淋釉器，包括淋釉機(jī)構(gòu)和向所述淋釉機(jī)構(gòu)供釉漿的蓄釉槽，所述蓄釉槽內(nèi)設(shè)有用于防止釉漿凝結(jié)的攪動(dòng)裝置；

其中，所述淋釉機(jī)構(gòu)包括設(shè)有用于導(dǎo)出釉漿的淋釉板和與所述淋釉板對(duì)應(yīng)設(shè)置的載釉滾筒，所述蓄釉槽內(nèi)的釉通過粘附轉(zhuǎn)動(dòng)的載釉滾筒，移至所述淋釉板處。

作為上述方案的改進(jìn)，所述淋釉器還包括用于調(diào)整所述淋釉板位置的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述淋釉板的兩側(cè)設(shè)有與所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)連接的擋釉板。

作為上述方案的改進(jìn)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括支撐基板和與所述擋釉板連接的軸承座，所述擋釉板設(shè)有與所述軸承座相適配的連接軸，所述支撐基板設(shè)有與所述軸承座相適配的行程孔和用于移動(dòng)所述軸承座的橫向調(diào)節(jié)螺桿，通過旋擰所述橫向調(diào)節(jié)螺桿，以改變淋釉板與載釉滾筒的間距。

作為上述方案的改進(jìn)，所述連接軸設(shè)于所述擋釉板的一端，所述擋釉板的另一端設(shè)有縱向調(diào)節(jié)組件，所述縱向調(diào)節(jié)組件包括與所述擋釉板連接的螺紋連接件和與所述螺紋連接件相適配縱向調(diào)節(jié)螺桿，所述縱向調(diào)節(jié)螺桿的一端支撐于所述支撐基板上。

作為上述方案的改進(jìn)，所述攪動(dòng)裝置包括攪動(dòng)軸和用于驅(qū)動(dòng)所述攪動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，所述攪動(dòng)軸的表面設(shè)有用于攪動(dòng)釉漿的葉片。

作為上述方案的改進(jìn)，所述蓄釉槽內(nèi)設(shè)有緩流閘、進(jìn)釉口和用于控制釉漿液面高度的溢釉口，所述緩流閘與蓄釉槽的側(cè)壁形成底部留有縫隙的緩流槽，釉從所述進(jìn)釉口流入依次流經(jīng)所述緩流槽和蓄釉槽的底部。

作為上述方案的改進(jìn)，所述淋釉板的兩側(cè)設(shè)有用于穩(wěn)定釉幕流動(dòng)狀態(tài)的穩(wěn)流板。

作為上述方案的改進(jìn)，所述淋釉板的上下兩邊分別為接釉邊和出釉邊，所述接釉邊與所述載釉滾筒之間留有預(yù)設(shè)間距的載釉縫隙，所述穩(wěn)流板設(shè)于所述出釉邊的兩側(cè)。