[發(fā)明專利]一種ECNU-25分子篩及其制備方法和應用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911363481.1
• 申請日: 2019-12-26
• 公開（公告）號: CN111137903B
• 公開（公告）日: 2022-11-01
• 發(fā)明（設計）人: 吳鵬;張景巖;徐浩;季澎;蔣金剛;關業(yè)軍;吳海虹;何鳴元
• 申請（專利權(quán)）人: 華東師范大學
• 主分類號: C01B39/46
• 分類號: C01B39/46;C01B39/48;B01J29/89;C07C1/20;C07C11/04;C07C11/06;C07D301/12;C07D303/04;C07C29/10;C07C31/20;B01D53/56;B01D53/86
• 代理公司: 上海藍迪專利商標事務所(普通合伙) 31215
• 代理人: 徐筱梅;張翔

1.一種ECNU-25分子篩，其特征在于該分子篩為“第一氧化物·第二氧化物”或“第一氧化物?第二氧化物?第三氧化物”所示的化學組成，且具有下表1所示合成態(tài)存在的X-射線衍射的結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)和表2所示焙燒態(tài)存在的X-射線衍射的結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)：

表1

(a)]]>	d-間距(?)	相對強度(%)
9.393	9.4076	vs
12.779	6.9218	w
13.8	6.4117	w
15.883	5.5753	w
17.517	5.0587	w
18.85	4.7038	w
20.437	4.342	s
21.742	4.0842	w
22.226	3.9963	w
22.839	3.8905	m
24.59	3.6172	m
25.72	3.4609	w
27.437	3.2481	w
27.805	3.2059	w
28.439	3.1359	w
28.439	3.1359	w
29.301	3.0456	w
30.352	2.9424	w
30.373	2.9404	s
30.709	2.909	m
31.289	2.8564	w
32.081	2.7876	w
33.053	2.7079	w
33.072	2.7064	w
34.246	2.6162	w
34.661	2.5858	w
35.46	2.5294	w
35.57	2.5218	w
35.881	2.5007	w
37.838	2.3757	w
37.959	2.3684	w
38.236	2.3519	w
38.716	2.3238	w
38.716	2.3238	w
39.005	2.3073	w
39.377	2.2864	w
40.194	2.2417	w
40.21	2.2409	w
40.474	2.2269	w
41.563	2.171	w
42.25	2.1372	w
42.25	2.1372	w
42.33	2.1334	w
42.345	2.1327	w
42.361	2.1319	w
43.053	2.0992	w
43.659	2.0715	w
44.32	2.0421	w
44.397	2.0388	w
44.412	2.0381	w
44.67	2.0269	w
45.349	1.9982	w
46.39	1.9557	w
46.419	1.9546	w
46.654	1.9452	w
47.311	1.9198	w
47.63	1.9077	w
48.334	1.8815	w
48.548	1.8737	w
48.576	1.8727	w
48.973	1.8584	w
48.973	1.8584	w

表2

(a)]]>	d-間距(?)	相對強度(%)
9.426	9.374	vs
12.842	6.887	w
14.065	6.291	w
16.116	5.495	w
17.984	4.928	w
18.85	4.704	w
20.813	4.264	s
22.351	3.974	w
22.661	3.92	w
23.347	3.807	m
25.389	3.505	m
26.237	3.394	w
28.037	3.181	w
28.678	3.11	w
30.027	2.973	w
31.079	2.875	w
31.447	2.842	w
31.676	2.822	w
32.159	2.781	w
32.899	2.72	w
34.208	2.619	w
35.088	2.555	w
35.599	2.52	w
36.765	2.442	w
39.401	2.319	w
40.453	2.228	w
42.699	2.116	w
43.779	2.066	w
44.319	2.042	w
47.730	1.904	w

其中：(a)為± 0.30°；衍射峰強度w為小于20，m為20～40，s為40～70，vs為大于70；

所述第一氧化物為二氧化硅；所述第二氧化物為氧化硼；第三氧化物為氧化鋁、氧化鈦、氧化錫、氧化鐵、氧化鎵、稀土氧化物、氧化銦和氧化釩中的一種或兩種以上的混合；所述第一氧化物與第二氧化物摩爾比以氧化物計為0.5~30，第一氧化物與第三氧化物的摩爾比以氧化物計為10。