[發(fā)明專利]一種減反射防藍光鏡片及其生產(chǎn)工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911359224.0 | 申請日： | 2019-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN110908142A | 公開（公告）日： | 2020-03-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 佟艷群;焦飛宏;蔣俊平;陳新 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇匯鼎光學眼鏡有限公司 |
| 主分類號： | G02C7/10 | 分類號： | G02C7/10;G02B1/116;G02B1/14 |
| 代理公司： | 南京智造力知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32382 | 代理人： | 杜丹 |
| 地址： | 212000 江蘇省鎮(zhèn)江市丹陽*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 反射 防藍光 鏡片 及其 生產(chǎn)工藝 | ||
1.一種減反射防藍光鏡片，其特征在于：包括基片(3)、加硬膜和減反射膜層，所述加硬膜包括內(nèi)側(cè)加硬膜(4)和外側(cè)加硬膜(2)，分別設(shè)在基片(3)的內(nèi)側(cè)或外側(cè)，所述減反射膜層包括內(nèi)側(cè)減反射膜層(5)和外側(cè)減反射膜層(1)，分別設(shè)在內(nèi)側(cè)加硬膜(4)或外側(cè)加硬膜(2)的表面，所述內(nèi)側(cè)減反射膜層(5)和外側(cè)減反射膜層(1)成分相同，為八層，由內(nèi)向外依次為第一層二氧化鋯層(6)，第二層二氧化硅層(7)，第三層二氧化鋯層(8)，第四層二氧化硅層(9)，第五層二氧化鋯層(10)，第六層二氧化硅層(11)，第七層氧化銦錫層(12)，第八層二氧化硅層(13)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種減反射防藍光鏡片，其特征在于：所述內(nèi)側(cè)加硬膜(4)和外側(cè)加硬膜(2)均為有機硅加硬膜，厚度為1～2μm。
3.如權(quán)利要求1所述的一種減反射防藍光鏡片，其特征在于：第一層二氧化鋯層(6)厚度為6～8nm，第二層二氧化硅層(7)厚度為35～40nm；第三層二氧化鋯層(8)厚度為18～20nm；第四層二氧化硅層(9)厚度為30～40nm；第五層二氧化鋯層(10)厚度為85～90nm；第六層二氧化硅層(11)厚度為10～14nm；第七層氧化銦錫層(12)厚度為6～7nm；第八層二氧化硅層(13)厚度為70～74nm。
4.一種減反射防藍光鏡片的生產(chǎn)工藝，其特征在于：具體包括以下步驟：
第一步，基材配制：按重量份數(shù)計，在室溫下將96份的碳本酸丙烯乙酸、過碳酸異丙酯2～3份、引發(fā)劑0.02～0.03份、增塑劑0.03～0.04份、藍光吸收劑0.2～1份均勻攪拌，抽真空混合為單體混合物得到基材；
第二步，澆注固化：將處理好的基材澆注到清洗過的鏡片模具中，再送入固化設(shè)備中，進行澆注固化處理，得到基片(3)；
第三步，鏡片清洗：將固化成型的基片(3)切邊，再進行清洗；
第四步，鏡片加硬：在加硬設(shè)備中采用HCZ117有機硅加硬液對洗凈的基片(3)進行加硬處理；
第五步，加硬固化：將加硬過的基片(3)送入固化設(shè)備中，得到帶有加硬膜的鏡片；
第六步，真空鍍膜：將帶有加硬膜的鏡片送入真空鍍膜室，分別在內(nèi)側(cè)加硬膜(4)和外側(cè)加硬膜(2)表面加鍍減反射膜層，得到減反射防藍光鏡片；
第七步，鏡片檢驗：對減反射防藍光鏡片進行檢驗工作，檢測防藍光、可見光反射比、可見光透射比、耐磨、膜層附著力性能是否合格。
5.如權(quán)利要求4所述的一種減反射防藍光鏡片的生產(chǎn)工藝，其特征在于：第二步澆注固化處理工藝為先加溫至50～60℃，保持2～3h，升溫至100～105℃，保持4～5h。
6.如權(quán)利要求4所述的一種減反射防藍光鏡片的生產(chǎn)工藝，其特征在于：第四步中加硬處理為在15～20℃溫度下將洗凈的基片(3)浸入有機硅加硬液，浸潤時間3～5分鐘，待液面平整無氣泡時，平穩(wěn)地將基片(3)提拉出液面。
7.如權(quán)利要求4所述的一種減反射防藍光鏡片的生產(chǎn)工藝，其特征在于：第五步中，固化溫度為100～105℃，固化時間為2～3h。
8.如權(quán)利要求4所述的一種減反射防藍光鏡片的生產(chǎn)工藝，其特征在于：第六步中，真空鍍膜室設(shè)定溫度40～50℃，真空度為4×10-5～4.2×10-5Pa。
9.如權(quán)利要求4所述的一種減反射防藍光鏡片的生產(chǎn)工藝，其特征在于：真空鍍膜時加內(nèi)到外依次鍍第一層二氧化鋯層(6)厚度為6～8nm，鍍膜速率2.5nm/s～3.5nm/s，第二層二氧化硅層(7)厚度為35～40nm，鍍膜速率5nm/s～6nm/s，第三層二氧化鋯層(8)厚度為18～20nm，鍍膜速率2.5nm/s～3.5nm/s，第四層二氧化硅層(9)厚度為30～40nm，鍍膜速率2.5nm/s～3.5nm/s，第五層二氧化鋯層(10)厚度為85～90nm，鍍膜速率2.5nm/s～3.5nm/s，第六層二氧化硅層(11)厚度為10～14nm，鍍膜速率2.5nm/s～3.5nm/s，第七層氧化銦錫層(12)厚度為6～7nm，鍍膜速率0.6nm/s～0.8nm/s，第八層二氧化硅層(13)厚度為70～74nm，鍍膜速率2.5nm/s～3.5nm/s。
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