[發明專利]一種新型脫硫系統漿液密度測量裝置在審
| 申請號: | 201911358767.0 | 申請日: | 2019-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN110927008A | 公開(公告)日: | 2020-03-27 |
| 發明(設計)人: | 郭景州;葉慷;王興如;沈海濤;沈敏強;戴家浩;林云平;趙媛媛 | 申請(專利權)人: | 浙江浙能邁領環境科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N9/26 | 分類號: | G01N9/26 |
| 代理公司: | 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 張歡勇 |
| 地址: | 311200 浙江省杭州市蕭山區*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 脫硫 系統 漿液 密度 測量 裝置 | ||
本發明提供一種新型脫硫系統漿液密度測量裝置,包括機柜及安裝在機柜內的電控單元和測量單元,所述測量單元包括兩套冗余的測量組件及連接測量組件的連接管件,所述兩套測量組件分別為結構一致的測量組件A和測量組件B;所述測量組件包括測量筒及設置在測量筒外端管路上的電磁閥,所述測量筒設有溢流口、pH計接口、測量開孔、漿液引入開孔和疏排管開孔。測量裝置測量精度較高、具備自動清洗功能、穩定性好、維護量小,經濟實用,適用于所有漿液密度測量的應用場合。
技術領域
本發明涉及環保脫硫技術領域,具體為一種新型脫硫系統漿液密度測量裝置。
背景技術
在鎂法、鈉法、鈣法等脫硫系統中,漿液密度的測量直接影響到脫硫效率、脫硫劑消耗量的控制,因此是較為關鍵的測量環節。當前普遍的測量技術可以歸納為三類。
第一類為放射性密度計,測量原理為:通過檢測穿過漿液的核輻射密度劑量來換算成漿液密度。此類放射性儀表的安裝和應用的審批程序繁瑣,且對操作者有一定輻射危害,目前已經淡出主流市場,應用場合較少。
第二類為質量流量計,基于科里奧利測量原理,當介質通過振動頻率固定的測量管時,會改變振動頻率,通過對振動頻率的測量,可以計算介質的密度。該類設備的安裝要求較高,首先,必須保證在滿管情況下測量;其次,由于質量流量計的測量管徑所限(通常在DN32~DN100之間),為防止低流速情況下造成的堵塞,實際應用中通??紤]安裝在泵的出口,但是,此種安裝方式也會帶來負面影響--測量設備容易磨損,損壞率較高,維護工作量較大。
第三類為差壓法密度測量,測量原理為阿基米德定律。該測量方式是通過安裝在箱罐上的壓力/壓差測量儀表,測量得到壓力差ΔP,再根據公式ρ=ΔP/gh,間接測量漿液密度ρ。目前,較為廣泛的應用有兩種。第一種:直接將測壓表計安裝在被測漿液的儲罐上。如:鈣法石灰石漿液密度、吸收塔漿液密度的測量均采用過此種測量方式,存在的問題是:此種測量方式會受到箱罐內部液體晃動的影響,如:攪拌器、氧化風鼓入等均會影響漿液液位高度,造成壓差的波動,從而導致測量的精確性、穩定性不高;第二種:取樣式測量--即通過管路將漿液引流至儲罐外測量,避免第一種情況中的弊端。但是,普通取樣式測量方式存在的缺陷是:為保證取出的漿液和被測源頭漿液的特性一致,需要不斷的抽取新鮮的漿液并測量,例如:T1時刻,將被測源頭的漿液抽取至普通取樣式測量設備進行測量,T2時刻完成一次測量,并上傳測量數據,緊接著,在下一次測量前,必須排空漿液,沖洗測量管路,再引入新的漿液,進行重新測量,這一系列動作耗時時間t,而在這時間段t中,實時測量已經停止,而為保證脫硫系統控制的不間斷,在T2+t時刻,控制系統只能保持并利用上一次T2時刻的測量值,因此,普通取樣引流測量裝置有測量滯后性,并非實時監測。
發明內容
本發明所解決的技術問題在于提供一種基于差壓法密度測量原理的新型脫硫系統漿液密度測量裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
本發明所解決的技術問題采用以下技術方案來實現:一種新型脫硫系統漿液密度測量裝置,包括機柜及安裝在機柜內的電控單元和測量單元,所述測量單元包括兩套冗余的測量組件及連接測量組件的連接管件,所述兩套測量組件分別為結構一致的測量組件A和測量組件B;所述測量組件包括測量筒及設置在測量筒外端管路上的電磁閥,所述測量筒設有溢流口、pH計接口、測量開孔、漿液引入開孔和疏排管開孔;所述溢流口位于測量筒的上端側邊,溢流口的外接管傾斜向下便于液體流出;所述pH計接口位于測量筒的中部位置且遠離溢流口的一端,所述pH計接口的外接管傾斜向上;所述測量開孔和漿液引入開孔設置在測量筒的下部位置,所述測量開孔位于漿液引入開孔的上端,測量開孔的外接管通過三通管件分別與壓力變送器和沖洗水電磁閥連接,所述漿液引入開孔通過外接管連接進料電磁閥;所述疏排管開孔位于測量筒的底部位置,疏排管開孔外端連接疏放管道,所述疏放管道上安裝有控制通斷的疏放電磁閥。
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