[發(fā)明專利]水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911357770.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111090103B | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐鵬飛;駱佳成;任子成;張?jiān)?/a>;陳茂飛;程紅霞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河海大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01S17/894 | 分類號(hào): | G01S17/894;G06T7/90 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224 | 代理人: | 許婉靜 |
| 地址: | 210098 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水下 目標(biāo) 動(dòng)態(tài) 精細(xì) 檢測(cè) 三維 成像 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像裝置,包括平臺(tái)(3),其特征在于:激光發(fā)射模塊與水下攝像機(jī)(1)固定安裝在平臺(tái)上,水下攝像機(jī)(1)與處理單元(5)連接;所述激光發(fā)射模塊為陣列激光發(fā)射單元(2);所述陣列激光發(fā)射單元的激光器布置方式為:多個(gè)激光器(9)按設(shè)定間隔平行排列布置,所述激光器為一字線激光器;或在同一垂直平面的同一位置布置多個(gè)激光器,所述激光器為一字線激光器,每個(gè)一字線激光器以不同的角度安裝。本發(fā)明的水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像裝置,由于采用激光陣列單元,減少了點(diǎn)云數(shù)據(jù)拼接次數(shù),提高點(diǎn)云成像質(zhì)量,實(shí)現(xiàn)了海底高精度精細(xì)目標(biāo)的動(dòng)態(tài)檢測(cè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像裝置,屬于水下機(jī)器人探測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
為了滿足水下機(jī)器人在復(fù)雜海洋環(huán)境下的高效自主作業(yè)需求,水下目標(biāo)檢測(cè)作為機(jī)器人“眼睛”的功能要求越來越高,探測(cè)技術(shù)手段也越來越先進(jìn)。水下目標(biāo)檢測(cè)的任務(wù)是在特定區(qū)域找出感興趣的目標(biāo),是目標(biāo)提取與識(shí)別的重要過程,目前應(yīng)用較為廣泛的主要有聲學(xué)檢測(cè)、光學(xué)檢測(cè)和磁探測(cè)技術(shù)等。由于水體對(duì)電磁波的快速吸收作用,光學(xué)探測(cè)距離近,水中懸浮顆粒物的散射以及光源的不均勻性都會(huì)導(dǎo)致圖像嚴(yán)重退化,由三維到二維的成像過程不可避免地?fù)p失了深度信息。基于雙目光視覺的水下目標(biāo)檢測(cè)從理論上可以補(bǔ)充空間信息,但針對(duì)水下非結(jié)構(gòu)化環(huán)境下的雙目視覺特征匹配容易出現(xiàn)誤匹配和病態(tài)問題,在線處理的計(jì)算量大、速度慢、精度差、故障率高。因此,水下目標(biāo)探測(cè)長期以聲學(xué)探測(cè)為主,具有探測(cè)距離遠(yuǎn)、不受水質(zhì)條件影響等優(yōu)勢(shì),高分辨率圖像聲納技術(shù)發(fā)展迅速,包括前視聲納、側(cè)掃聲納、多波束測(cè)深聲納,得到了廣泛的應(yīng)用。與光學(xué)相比,聲學(xué)圖像反映的是目標(biāo)對(duì)聲波的反射能量強(qiáng)度空間分布,由于水聲信道的復(fù)雜性導(dǎo)致聲學(xué)圖像非常不直觀、難以理解。因此,近年來出現(xiàn)了對(duì)聲納圖像進(jìn)行幾何特征提取再進(jìn)行空間重構(gòu)的三維聲納成像技術(shù),但由于水聲信道噪聲干擾,聲納波束主瓣指向不可避免存在旁瓣效應(yīng),導(dǎo)致成像分辨率雖高但檢測(cè)精度較低,無法滿足小目標(biāo)的精細(xì)檢測(cè)要求。此外,距離1m以內(nèi)是目前三維聲納成像的檢測(cè)盲區(qū)。激光掃描三維成像是當(dāng)前比較前沿的高新技術(shù)手段,具有高分辨率、高精度的特點(diǎn),圖像處理計(jì)算量大大降低,但依然存在掃描速度慢、一致性構(gòu)圖質(zhì)量受導(dǎo)航定位精度、載體位姿變化影響等缺陷。因此,水下機(jī)器人高速航行工況下近距離內(nèi)的水下小目標(biāo)精細(xì)檢測(cè)是目前亟待解決的關(guān)鍵難題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:現(xiàn)有的水下光視覺、聲視覺獲得的都是二維圖像,光學(xué)探測(cè)受到水中懸浮顆粒散射、光源不均勻照明等影響,聲學(xué)探測(cè)受到水聲信道多途效應(yīng)、換能器波束旁瓣效應(yīng)等影響,成像質(zhì)量較差及檢測(cè)精度難以保證,無法準(zhǔn)確獲取水下目標(biāo)的三維信息,不方便在線測(cè)量目標(biāo)空間尺度特征,載體高速運(yùn)動(dòng)下的動(dòng)態(tài)匹配非常困難。
為滿足水下小目標(biāo)及精細(xì)結(jié)構(gòu)的高分辨率三維檢測(cè)需求,本發(fā)明提出一種水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像裝置及方法,是水下光視覺與水下激光掃描技術(shù)的創(chuàng)新組合,利用激光指向性強(qiáng)、藍(lán)綠激光水下穿透性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),首次采用平行激光陣列代替單線激光器進(jìn)行快速掃描,大幅提高了水下激光的三維成像效率,實(shí)現(xiàn)多線激光掃描一次成像,可對(duì)高速航行工況下的水下動(dòng)態(tài)小目標(biāo)進(jìn)行高效、高分辨率、高精度的三維點(diǎn)云成像,可搭載于各類水下機(jī)器人完成精細(xì)目標(biāo)檢測(cè)、環(huán)境監(jiān)測(cè)等任務(wù)。
本發(fā)明的水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像裝置,包括平臺(tái)3,激光發(fā)射模塊與水下攝像機(jī)1固定安裝在平臺(tái)上,水下攝像機(jī)1與處理單元5連接。
進(jìn)一步地,所述平臺(tái)安裝在水下機(jī)器人8的下部,激光發(fā)射模塊與水下攝像機(jī)1方向向下安裝在平臺(tái)3上,所述激光發(fā)射模塊為陣列激光發(fā)射單元2,水下攝像機(jī)1向陣列激光發(fā)射單元2方向傾斜安裝。
進(jìn)一步地,所述水下攝像機(jī)1為兩臺(tái),分別安裝在陣列激光發(fā)射單元2的兩側(cè)。
進(jìn)一步地,所述激光發(fā)射模塊為單線激光器4,激光發(fā)射模塊、水下攝像機(jī)1與處理單元5均安裝在平臺(tái)3上,所述平臺(tái)3固定安裝在步進(jìn)電機(jī)6的輸出軸上,所述步進(jìn)電機(jī)6安裝在支架7上。
一種水下小目標(biāo)動(dòng)態(tài)精細(xì)檢測(cè)三維成像方法,具體包括以下步驟:
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- 專利分類
G01S 無線電定向;無線電導(dǎo)航;采用無線電波測(cè)距或測(cè)速;采用無線電波的反射或再輻射的定位或存在檢測(cè);采用其他波的類似裝置
G01S17-00 應(yīng)用除無線電波外的電磁波的反射或再輻射系統(tǒng),例如,激光雷達(dá)系統(tǒng)
G01S17-02 .應(yīng)用除無線電波外的電磁波反射的系統(tǒng)
G01S17-66 .應(yīng)用除無線電波外的電磁波的跟蹤系統(tǒng)
G01S17-74 .應(yīng)用除無線電波外的電磁波的再輻射系統(tǒng),例如IFF,即敵我識(shí)別
G01S17-87 .應(yīng)用除無線電波外電磁波的系統(tǒng)的組合
G01S17-88 .專門適用于特定應(yīng)用的激光雷達(dá)系統(tǒng)
- 目標(biāo)檢測(cè)裝置、學(xué)習(xí)裝置、目標(biāo)檢測(cè)系統(tǒng)及目標(biāo)檢測(cè)方法
- 目標(biāo)監(jiān)測(cè)方法、目標(biāo)監(jiān)測(cè)裝置以及目標(biāo)監(jiān)測(cè)程序
- 目標(biāo)監(jiān)控系統(tǒng)及目標(biāo)監(jiān)控方法
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤裝置
- 目標(biāo)檢測(cè)方法和目標(biāo)檢測(cè)裝置
- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
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- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
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