[發(fā)明專(zhuān)利]顯示面板及其制作方法、顯示裝置有效
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911356965.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-25 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111146357B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-07-19 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張立祥 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分類(lèi)號(hào): | H01L51/52 | 分類(lèi)號(hào): | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606 | 代理人: | 劉葛 |
地址: | 065500 河*** | 國(guó)省代碼: | 河北;13 |
權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。顯示面板包括基板、設(shè)于基板上的發(fā)光器件及覆蓋發(fā)光器件的封裝層,封裝層包括依次層疊設(shè)置的第一無(wú)機(jī)封裝膜層、配向封裝膜層及第二無(wú)機(jī)封裝膜層,配向封裝膜層背離基板的一側(cè)具有多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽。本發(fā)明提供的顯示面板及其制作方法、顯示裝置,因配向封裝膜層背離基板的一側(cè)具有多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽,當(dāng)無(wú)機(jī)封裝膜層出現(xiàn)裂紋時(shí),配向封裝膜層上的溝槽可延長(zhǎng)了水氧入侵路徑,并且納米級(jí)的溝槽具有更小的尺寸,水氧也很難入侵至溝槽內(nèi),增加了水氧腐蝕發(fā)光器件的難度,故可提高顯示面板的水氧阻隔能力,延長(zhǎng)顯示面板的壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。
背景技術(shù)
薄膜封裝是一種廣泛應(yīng)用于OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示面板制作的封裝方式,其采用無(wú)機(jī)層和有機(jī)層的疊層結(jié)構(gòu)對(duì)OLED器件進(jìn)行覆蓋,以達(dá)到阻隔水氧的目的。
但現(xiàn)有顯示面板的薄膜封裝,仍然存在阻隔水氧較差的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要針對(duì)現(xiàn)有顯示面板的薄膜封裝,存在阻隔水氧較差的問(wèn)題,提供一種改善上述問(wèn)題的顯示面板及其制作方法、顯示裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供一種顯示面板,包括:
基板;
發(fā)光器件,設(shè)于所述基板上;及
封裝層,覆蓋所述發(fā)光器件;
其中,所述封裝層包括依次層疊設(shè)置的第一無(wú)機(jī)封裝膜層、配向封裝膜層及第二無(wú)機(jī)封裝膜層,所述配向封裝膜層背離所述基板的一側(cè)具有多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽。
在一實(shí)施例中,所述預(yù)設(shè)方向與所述配向封裝膜層的縱長(zhǎng)方向呈角度設(shè)置。
在一實(shí)施例中,所述配向封裝膜層與所述第二無(wú)機(jī)封裝膜層直接接觸;
優(yōu)選地,所述第二無(wú)機(jī)封裝膜層與所述配向封裝膜層直接接觸的表面具有與所述配向結(jié)構(gòu)相匹配的配合部。
在一實(shí)施例中,所述配向封裝膜層的材料為有機(jī)材料;
優(yōu)選地,所述配向封裝膜層的材料為聚酰亞胺。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面,還提供一種顯示面板的制作方法,包括步驟:
提供一基板;
在所述基板上形成發(fā)光器件;
在所述基板上形成所述封裝層;其中,所述封裝層包括依次層疊設(shè)置的第一無(wú)機(jī)封裝膜層、配向封裝膜層及第二無(wú)機(jī)封裝膜層,所述配向封裝膜層背離所述基板的一側(cè)具有多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽。
在一實(shí)施例中,所述在所述基板上形成所述封裝層具體包括步驟:
在所述基板上形成第一無(wú)機(jī)封裝膜層;
在所述第一無(wú)機(jī)封裝膜層上形成待配向封裝膜層,并對(duì)所述待配向封裝膜層背離所述基板的一側(cè)表面進(jìn)行配向處理,以形成多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽;
在所述配向封裝膜層上形成第二無(wú)機(jī)封裝膜層。
在一實(shí)施例中,所述對(duì)所述待配向封裝膜層背離所述基板的一側(cè)表面進(jìn)行配向處理,以形成多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽具體包括步驟:
提供一摩擦配向裝置;
利用所述摩擦配向裝置對(duì)所述待配向封裝膜層背離所述基板的一側(cè)表面進(jìn)行摩擦配向處理,以形成多個(gè)沿預(yù)設(shè)方向平行排列的納米級(jí)溝槽。
在一實(shí)施例中,所述摩擦配向裝置包括摩擦配向輥筒。
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