[發明專利]基板吸附裝置

在審

• 申請號: 201911351372.8
• 申請日: 2019-12-24
• 公開（公告）號: CN111085954A
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發明（設計）人: 張偉基
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: B25B11/00
• 分類號: B25B11/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 呂姝娟

1.一種基板吸附裝置，其特征在于，所述基板吸附裝置包括：

至少一第一吸附部，所述第一吸附部設置于所述基板吸附裝置的吸附面的中部區域；

至少兩第二吸附部，所述第二吸附部設置于所述吸附面的外圍區域，其中，所述外圍區域位于所述中部區域的至少一側；

所述第二吸附部的第二吸附力大于所述第一吸附部的第一吸附力。

2.根據權利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述第一吸附部產生所述第一吸附力的時間先于所述第二吸附部產生所述第二吸附力的時間。

3.根據權利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述第一吸附部包括第一真空吸附構件，至少兩所述第一真空吸附構件以一維陣列或二維陣列的形式排列；

所述第二吸附部包括第二真空吸附構件，至少兩所述第二真空吸附構件以一維陣列或二維陣列的形式排列。

4.根據權利要求3所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述基板吸附裝置還包括：

真空抽吸器，所述真空抽吸器與所述第一真空吸附構件和所述第二真空吸附構件相連，所述真空抽吸器用于向所述第一真空吸附構件抽吸真空，以使所述第一吸附構件生成所述第一吸附力，以及用于向所述第二真空吸附構件抽吸真空，以使所述第二真空吸附構件生成所述第二吸附力。

5.根據權利要求4所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述真空抽吸器用于在第一時間段內向所述第一真空吸附構件抽吸真空，以使所述第一吸附構件在所述第一時間段內生成所述第一吸附力，以及用于在第二時間段內向所述第二真空吸附構件抽吸真空，以使所述第二真空吸附構件在所述第二時間段內生成所述第二吸附力。

6.根據權利要求4所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述第一真空吸附構件包括第一吸盤和第一吸管，所述第一吸盤與所述第一吸管的一端連接，所述第一吸管的另一端與所述真空抽吸器連接；

所述第二真空吸附構件包括第二吸盤和第二吸管，所述第二吸盤與所述第二吸管的一端連接，所述第二吸管的另一端與所述真空抽吸器連接。

7.根據權利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述第一吸附部、所述第二吸附部在所述吸附面上的投影的形狀為直角三角形、矩形、梯形、扇形、環形中的一種或一種以上的組合。

8.根據權利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，在所述第一吸附部中，至少兩所述第一真空吸附構件的第一吸附力自所述中部區域指向所述外圍區域的方向均勻分布或遞增。

9.根據權利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，在所述第二吸附部中，至少兩所述第二真空吸附構件的第二吸附力自所述中部區域指向所述外圍區域的方向遞增或遞減。

10.根據權利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述基板吸附裝置還包括：

支承臺，所述第一吸附部和所述第二吸附部均固定于所述支承臺上。