[發(fā)明專利]光譜分辨探測(cè)組件及制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911348538.0
• 申請(qǐng)日: 2019-12-24
• 公開（公告）號(hào): CN113029338B
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鐘海政;施立甫;朱曉秀
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京理工大學(xué);致晶科技（北京）有限公司
• 主分類號(hào): G01J3/28
• 分類號(hào): G01J3/28;G01J3/42
• 代理公司: 北京元周律知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11540
• 代理人: 校麗麗

1.一種光譜分辨探測(cè)組件，其特征在于，包括：

基底和設(shè)置在所述基底上的多個(gè)探測(cè)結(jié)構(gòu)；

多個(gè)所述探測(cè)結(jié)構(gòu)規(guī)則排布；不同所述探測(cè)結(jié)構(gòu)由不同組分的鈣鈦礦前驅(qū)體溶液制成；不同所述探測(cè)結(jié)構(gòu)的吸收邊波長(zhǎng)不同；

每個(gè)所述探測(cè)結(jié)構(gòu)上設(shè)置有包圍所述探測(cè)結(jié)構(gòu)的封裝結(jié)構(gòu)，所述封裝結(jié)構(gòu)的制作材料為高分子材料與半導(dǎo)體納米材料組成的復(fù)合材料；其中，所述高分子材料與半導(dǎo)體納米材料組成的復(fù)合材料的透過波長(zhǎng)為λ＞x nm，所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液的吸收邊波長(zhǎng)為λ＜ynm，y＞x；

所述半導(dǎo)體納米材料的化學(xué)通式為A₃B₂X₉、ABX₃、A₂BX₆中的至少一種；

其中，A選自CH₃NH₂、CH(NH)NH₂、Cs中的至少一種；B選自Ag、Sb、Bi、In、Al中的至少一種；X選自鹵族元素中的至少一種。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測(cè)組件，其特征在于，所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液包括第一溶質(zhì)、第二溶質(zhì)和溶劑；

所述第一溶質(zhì)的化學(xué)通式為AX；其中，A為CH₃NH₂、CH(NH)NH₂、Cs中的至少一種；X選自鹵族元素中的至少一種；

所述第二溶質(zhì)的化學(xué)通式為BX₂；B為Pb、Ag、Sb、Bi、In、Al中的至少一種；

所述溶劑為N,N-二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、乙酸乙酯、 N-甲基吡咯烷酮、四氫呋喃、甲苯、氯仿、丙酮中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測(cè)組件，其特征在于，所述封裝結(jié)構(gòu)為凸透鏡形狀。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測(cè)組件，其特征在于，所述高分子材料選自聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚醋酸乙烯酯、醋酸纖維素、聚砜、聚酰胺、聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇、透明ABS塑料、聚丙烯腈、聚烯烴彈性體、熱塑性聚氨酯、聚乙烯咔唑中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的探測(cè)組件，其特征在于，所述半導(dǎo)體納米材料的固含量為2wt.% - 99 wt.%。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的探測(cè)組件，其特征在于，所述探測(cè)組件應(yīng)用于光譜儀器件或多光譜成像器件。

7.一種權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的光譜分辨探測(cè)組件的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

配置多種不同組分的鈣鈦礦前驅(qū)體溶液；

將多種所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液轉(zhuǎn)移至基底上，形成規(guī)則排布的多個(gè)探測(cè)結(jié)構(gòu)；不同所述探測(cè)結(jié)構(gòu)的吸收邊波長(zhǎng)不同；

在每個(gè)所述探測(cè)結(jié)構(gòu)上設(shè)置包圍所述探測(cè)結(jié)構(gòu)的封裝結(jié)構(gòu)，所述封裝結(jié)構(gòu)的制作材料為高分子材料與半導(dǎo)體納米材料組成的復(fù)合材料，其中所述高分子材料與半導(dǎo)體納米材料組成的復(fù)合材料的透過波長(zhǎng)為λ＞x nm，所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液的吸收邊波長(zhǎng)為λ＜y nm，y＞x。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，多種所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液可以通過噴墨打印、噴涂、絲網(wǎng)印刷、氣流噴印、轉(zhuǎn)印、卷對(duì)卷圖案化、微納米壓印、毛筆刷涂、旋涂中的任意一種工藝轉(zhuǎn)移至所述基底上。