[發明專利]珍珠增光方法及裝置

有效

• 申請號: 201911346555.0
• 申請日: 2019-12-24
• 公開（公告）號: CN110973784B
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: 陳華才;龐越;陳竹;王燕;袁沛權
• 申請（專利權）人: 中國計量大學
• 主分類號: A44C27/00
• 分類號: A44C27/00
• 代理公司: 杭州鈐韜知識產權代理事務所(普通合伙) 33329
• 代理人: 唐靈;趙杰香

本發明提供一種珍珠增光方法及裝置，其中，所述珍珠增光方法包括：將選自無水甲醇、去離子水、納米鈦、烷基磺酸鈉、乙二胺四乙酸二鈉、甲基丙烯酸?2?氨基乙基酯鹽酸鹽、氨水溶液、反滲透阻垢緩蝕劑中的幾種物質組合分別制成多種處理液，將得到的多種處理液對珍珠依次進行浸泡清洗。本發明的珍珠增光方法使用多種處理液依次完成珍珠增光的浸泡處理，顯著提高了珍珠的光澤等級。同時，增光裝置中的透明擱置板橫置于保溫柜中央，方便令珍珠上下表面均勻接受光照；增光裝置中的平底密封玻璃槽為寬平底可開口設計，使處理的珍珠接受光照更加充分、均勻。與現有技術相比，能夠提高增光效果，同時不影響珍珠的通透性。

技術領域

本發明涉及珍珠增光技術領域，尤其涉及一種珍珠增光方法及實現該方法的裝置。

背景技術

目前，現有技術中對于珍珠的增光處理技術主要是：利用各種有機溶劑來浸泡珍珠，達到去除雜質和污垢的效果，但缺點在于效果不是很明顯；又如在有機溶劑浸泡的同時增加太陽光照，但不足之處在于受天氣影響較大，可利用時間較短。因此，針對上述問題，有必要提出進一步地解決方案。

發明內容

本發明的目的在于提供一種珍珠增光方法、勻光器件以及光學裝置，以克服現有技術中存在的不足。

為實現上述發明目的，本發明提供一種珍珠增光方法，其包括：

將選自無水甲醇、去離子水、納米鈦、烷基磺酸鈉、乙二胺四乙酸二鈉、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽、氨水溶液、反滲透阻垢緩蝕劑中的幾種物質組合分別制成多種處理液，將得到的多種處理液對珍珠依次進行浸泡清洗。

作為本發明的珍珠增光方法的改進，將選自無水甲醇、去離子水、納米鈦、烷基磺酸鈉、乙二胺四乙酸二鈉、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽、氨水溶液、反滲透阻垢緩蝕劑中的五種物質組合分別制成五種處理液，將得到的第一至第五處理液對對珍珠依次進行浸泡清洗。

作為本發明的珍珠增光方法的改進，

所述第一處理液包括如下組份：無水甲醇、納米鈦、烷基磺酸鈉；

所述第二處理液包括如下組份：去離子水、納米鈦、烷基磺酸鈉、乙二胺四乙酸二鈉、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽；

所述第三處理液包括如下組份：無水甲醇、納米鈦、烷基磺酸鈉、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽；

所述第四處理液包括如下組份：去離子水、納米鈦、烷基磺酸鈉、氨水溶液、反滲透阻垢緩蝕劑；

所述第五處理液包括：無水甲醇、納米鈦、烷基磺酸鈉、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽。

作為本發明的珍珠增光方法的改進，利用第一清洗溶液進行浸泡清洗時：將無水甲醇900～1100份；納米鈦4～6份；烷基磺酸鈉4～6份進行均勻混合，并將其加熱至35～45℃備用。

作為本發明的珍珠增光方法的改進，利用第二清洗溶液進行浸泡清洗時：將去離子水900～1100份；納米鈦4～6份；烷基磺酸鈉4～6份；乙二胺四乙酸二鈉4～6份；甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽15～30份進行均勻混合，并將其加熱至5～15℃備用。

作為本發明的珍珠增光方法的改進，利用第三清洗溶液進行浸泡清洗時：將無水甲醇900～1100份；納米鈦4～6份；烷基磺酸鈉4～6份；甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯鹽酸鹽15～30份進行均勻混合，并將其加熱至35～45℃備用。

作為本發明的珍珠增光方法的改進，利用第四清洗溶液進行浸泡清洗時：將去離子水900～1100份；納米鈦4～6份；烷基磺酸鈉4～6份；氨水溶液4～6份；反滲透阻垢緩蝕劑8～12份進行均勻混合，并將其加熱至15～25℃備用。