[發明專利]一種低壓、低功率互補電路、一種反相器和一種NAND器件有效
| 申請號: | 201911346079.2 | 申請日: | 2019-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN111584484B | 公開(公告)日: | 2023-09-29 |
| 發明(設計)人: | 文森;柏蘭嘉;趙建文 | 申請(專利權)人: | 蘇州大學 |
| 主分類號: | H01L27/092 | 分類號: | H01L27/092;H01L21/8238;H01L29/06;H10B41/35;H10B43/35 |
| 代理公司: | 蘇州吳韻知識產權代理事務所(普通合伙) 32364 | 代理人: | 王銘陸 |
| 地址: | 215123 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 低壓 功率 互補 電路 反相器 nand 器件 | ||
1.一種低壓、低功率互補電路,其特征在于,包括使用半導體碳納米管網狀晶體管作為半導體的數字、模擬或混合信號電路,所述半導體碳納米管網狀晶體管的介電層采用納米復合介電材料,所述介電層中設有具有明顯偶極矩的自組裝單層,以提供0.5μF/cm2的面電容和0.5V電壓下小于1μA/cm2的漏電流密度,包括用于設置晶體管的柔性基底,所述介電層設置在半導體碳納米管和柵極之間;
所述半導體碳納米管網狀晶體管制備方法為:通過在自組裝單層的柵極區域上沉積半導體碳納米管網狀層,隨后沉積由單一金屬制成的源、漏極以制備底柵頂接觸結構的半導體碳納米管網狀晶體管;
所述半導體碳納米管網狀晶體管采用基于溶液的方法沉積,所述的溶液的沉積方法采用打印或涂覆;這種打印或涂覆所形成的電路具有單個接觸材料用于柵極,以及單個接觸材料用于源極和漏極的特征;電源軌的技術功能相互之間0.7V即導致晶體管在其閾值電壓附近或閾值電壓以下工作;
所述納米復合介電材料采用高k絕緣材料、高k有機分子、高k聚合物或采用高k有機物和氧化物的組合;
所述高k絕緣材料采用鋁、鋯、鉿、鉭、釔、鈦、鑭及其混合物的氧化物。
2.一種反相器,其特征在于,采用權利要求1兩個所述的晶體管連接形成反相器門。
3.一種NAND器件,其特征在于,采用權利要求1所述的互補電路。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





