[發明專利]可控源電磁法測量中靜態位移校正方法、裝置及智能終端

有效

• 申請號: 201911344374.4
• 申請日: 2019-12-25
• 公開（公告）號: CN110989006B
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發明（設計）人: 李建華;林品榮;鄭采君;李勇;丁衛忠;孫夫文;劉昕卓;齊方帥
• 申請（專利權）人: 中國地質科學院地球物理地球化學勘查研究所
• 主分類號: G01V3/08
• 分類號: G01V3/08;G01V3/38
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 田云

1.一種可控源電磁法測量中靜態位移校正方法，其特征在于，所述方法包括：

在電性源的激發場源對應的接收區測點獲取測量磁場和測量電場；其中，所述測量磁場和所述測量電場通過可控源電磁法采集得到；

確定所述電性源與所述接收區測點的位置關系；

基于所述測量磁場、所述位置關系、供電電流、磁導率和角頻率計算校正視電阻率

其中，測量磁場為r為電性源AB的中點位置與測點的距離，為測點相對于電性源AB的偏移角，所述位置關系由r和確定；為波數，I₁、I₀和K₁、K₀分別是第一和第二類以ikr/2為宗量的虛宗量貝塞爾函數，0和1表示階數，I為供電電流；μ是磁導率，ω為角頻率；

根據所述校正視電阻率得到校正電場，并基于所述校正電場對所述測量電場進行校正。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在電性源的激發場源對應的接收區測點獲取測量磁場和測量電場的步驟，包括：

根據預設測量方式對所述激發場源進行測量，得到測量磁場和測量電場；所述預設測量方式包括一磁一電方式或一磁兩電方式。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定所述電性源與所述接收區測點的位置關系的步驟，包括：

確定所述電性源的距離為第一距離，所述電性源的指定位置與所述接收區測點的距離為第二距離；

根據所述第一距離和所述第二距離確定電性源的指定位置與所述接收區測點的位置偏移；

根據所述第一距離、所述第二距離和所述位置偏移確定所述電性源與所述接收區測點的位置關系。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述測量磁場計算校正視電阻率的步驟，還包括：

基于所述測量磁場和所述位置關系計算指定頻率的所述校正視電阻率的值；所述指定頻率包括單一頻率或指定頻率范圍。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據所述校正視電阻率得到校正電場，并基于所述校正電場對所述測量電場進行校正的步驟，包括：

基于所述校正視電阻率確定目標視電阻率；

基于所述目標視電阻率和所述位置關系計算所述指定頻率的所述校正電場的值；

基于所述校正電場的值對整個頻段上的所述測量電場進行校正。

6.一種可控源電磁法測量中靜態位移校正裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于在電性源的激發場源對應的接收區測點獲取測量磁場和測量電場；其中，所述測量磁場和所述測量電場通過可控源電磁法采集得到；

確定位置模塊，用于確定所述電性源與所述接收區測點的位置關系；

計算模塊，用于基于所述測量磁場和所述位置關系計算校正視電阻率

其中，測量磁場為r為電性源AB的中點位置與測點的距離，為測點相對于電性源AB的偏移角，所述位置關系由r和確定；為波數，I₁、I₀和K₁、K₀分別是第一和第二類以ikr/2為宗量的虛宗量貝塞爾函數，0和1表示階數，I為供電電流；μ是磁導率，ω為角頻率；

電場校正模塊，用于根據所述校正視電阻率得到校正電場，并基于所述校正電場對所述測量電場進行校正。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述獲取模塊用于：

根據預設測量方式對所述激發場源進行測量，得到測量磁場和測量電場；所述預設測量方式包括一磁一電方式或一磁兩電方式。

8.一種智能終端，其特征在于，包括處理器和存儲器；

所述存儲器上存儲有計算機程序，所述計算機程序在被所述處理器運行時執行如權利要求1至5任一項所述的方法。

9.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，用于儲存為權利要求1至5任一項所述方法所用的計算機程序。