[發明專利]一種應用于污水處理的水下監測系統有效
| 申請號: | 201911339008.X | 申請日: | 2019-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN110988290B | 公開(公告)日: | 2022-02-15 |
| 發明(設計)人: | 吳佳;沈彥;周一軍;吳堅;錢剛;云濤;陳會娟 | 申請(專利權)人: | 上海西派埃智能化系統有限公司 |
| 主分類號: | G01N33/18 | 分類號: | G01N33/18;G01B11/06;G05B19/05 |
| 代理公司: | 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385 | 代理人: | 馮靜 |
| 地址: | 200233 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 應用于 污水處理 水下 監測 系統 | ||
本發明公開了一種應用于污水處理的水下監測系統,包括:人機交互模塊、采集裝置、通訊模塊、數據存儲模塊以及分析模塊;采集裝置用于采集污水廠水池的圖像數據以及水質數據并發送至通訊模塊;通訊模塊將圖像數據以及水質數據傳輸至人機交互模塊顯示,同時傳入數據存儲模塊儲存;分析模塊調用數據存儲模塊儲存的圖像數據以及水質數據,并根據圖像數據及水質數據分別生成泥層厚度和水質檢測結果,并將泥層厚度及水質檢測結果傳輸到人機交互模塊顯示,并將泥層厚度及水質檢測結果存入數據存儲模塊。本發明的水下監測系統實現了全自動泥層厚度測量和水質測量,使檢測信息更全面,方便工作人員的判斷分析,從而有效保證整體的出水水質。
技術領域
本發明涉及污水廠的監測分析技術領域,特別是涉及一種應用于污水處理的水下監測系統。
背景技術
污水廠二沉池是活性污泥法污水處理系統的重要組成部分,其工作效果能夠直接影響污水處理的出水水質,起著保障出水水質懸浮物含量合格的決定性作用。在污水處理過程中,污水廠水池底部往往易堆積大量污泥,影響出水水質,在實際使用過程中,需要經常對污泥厚度、水質情況進行監測,及時調整工藝運行,從而保障出水水質。目前泥層厚度檢測大多通過污泥界面儀或污泥濃度計檢儀檢測污泥信息,無法直接觀測水下泥層實際情況及污泥形態情況,導致檢測信息不全面,影響出水水質。
發明內容
本發明的目的是提供一種應用于污水處理的水下監測系統,以解決現有泥層厚度檢測方法無法直接觀測水下污泥形態情況,導致的檢測信息不全面,影響出水水質的問題。
為實現上述目的,本發明提供了如下方案:
一種應用于污水處理的水下監測系統,包括:人機交互模塊、采集裝置、通訊模塊、數據存儲模塊以及分析模塊;所述人機交互模塊分別與所述通訊模塊、所述數據存儲模塊以及所述分析模塊連接;所述采集裝置、所述通訊模塊、所述數據存儲模塊以及所述分析模塊依次連接;
所述采集裝置用于采集污水廠水池的圖像數據以及水質數據并發送至所述通訊模塊;
所述通訊模塊用于將所述圖像數據以及所述水質數據傳輸至所述人機交互模塊進行顯示,同時傳入所述數據存儲模塊進行儲存;
所述分析模塊用于調用所述數據存儲模塊儲存的所述圖像數據以及水質數據,并根據所述圖像數據及所述水質數據分別生成泥層厚度和水質檢測結果,并將所述泥層厚度及所述水質檢測結果傳輸到所述人機交互模塊進行顯示,并將所述泥層厚度及所述水質檢測結果存入所述數據存儲模塊。
可選的,所述采集裝置包括:PLC控制模塊、提升機構以及手柄;所述PLC控制模塊分別與所述手柄以及所述提升機構連接;所述PLC控制模塊用于根據所述手柄的信號控制所述提升機構的升降。
可選的,所述提升機構包括:卷揚機、可旋轉攝像頭、光源和水質檢測儀表;所述卷揚機通過纜繩分別與所述可旋轉攝像頭以及所述水質檢測儀表連接;所述可旋轉攝像頭的正前方設置有所述光源;所述PLC控制模塊根據所述手柄的信號控制所述卷揚機纜繩的升降速度;所述卷揚機的纜繩帶動所述可旋轉攝像頭和所述水質檢測儀表的升降;所述可旋轉攝像頭用于采集所述圖像數據;所述水質檢測儀表用于采集所述水質數據。
可選的,所述分析模塊包括泥水界面訓練模塊;所述泥水界面訓練模塊用于調用所述數據存儲模塊存儲的所述圖像數據,根據所述圖像數據訓練得到泥水分界模型,并將所述泥水分界模型儲存到所述數據存儲模塊中。
可選的,所述分析模塊還包括泥水界面識別模塊;所述泥水界面識別模塊用于調用所述泥水分界模型,并根據所述通訊模塊實時傳輸的當前圖像數據,采用所述泥水分界模型識別泥水分界面,生成泥水分界面識別結果并發送至所述PLC控制模塊;當所述泥水分界面識別結果為識別到所述泥水分界面時,所述PLC控制模塊控制所述采集裝置停止下降。
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