[發明專利]一種半導體基片用聲光磁復合拋光裝置及拋光方法在審
| 申請號: | 201911336780.6 | 申請日: | 2019-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN110948293A | 公開(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發明(設計)人: | 潘繼生;卓志佳;閻秋生 | 申請(專利權)人: | 廣東工業大學 |
| 主分類號: | B24B1/00 | 分類號: | B24B1/00;B24B1/04;H01L21/67;H01L21/304 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 王錦霞 |
| 地址: | 510060 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 基片用 聲光 復合 拋光 裝置 方法 | ||
1.一種半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,包括磁流變拋光組件(1)、催化劑添加組件(2)、光催化組件(3)以及兆聲波催化組件(4),所述磁流變拋光組件(1)包括第一驅動電機(11)、拋光軸(12)以及拋光盤(13),所述拋光軸(12)與第一驅動電機(11)連接且拋光軸(12)可伸入至拋光盤(13)內側,所述拋光盤(13)內盛裝有磁流變液、所述拋光盤(13)下方設有在拋光盤(13)內形成磁場的電磁組件(5)、拋光盤(13)的下部連接有驅動拋光盤(13)旋轉的驅動組件(6),所述催化劑添加組件(2)與拋光盤(13)連通向拋光盤(13)內輸送催化劑,所述光催化組件(3)設于拋光盤(13)旁側向拋光盤(13)內側發射紫外光,所述兆聲波催化組件(4)與拋光盤(13)連接向拋光盤(13)內側發射兆聲波。
2.根據權利要求1所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述磁流變拋光組件(1)還包括機殼(14)、支架(15)和滑軌(16),所述第一驅動電機(11)與支架(15)的一端連接,支架(15)的另一端與滑軌(16)滑動連接,所述滑軌(16)固定于機殼(14)。
3.根據權利要求2所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述驅動組件(6)包括第二驅動電機(61)以及主軸(62),所述主軸(62)與第二驅動電機(61)連接,所述主軸(62)連接有裝夾盤(66),所述拋光盤(13)與裝夾盤(66)連接。
4.根據權利要求3所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述電磁組件(5)包括套設于主軸(62)的電刷滑環(51)、嵌設于裝夾盤(66)的電磁鐵(52),所述電刷滑環(51)與電磁鐵(52)電連接。
5.根據權利要求3所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述拋光盤(13)裝夾于裝夾盤(66),所述拋光盤(13)為透明結構且所述拋光盤(13)底部鋪設有拋光鐵盤(17),所述光催化組件(3)設有拋光盤(13)側部。
6.根據權利要求1至5任一項所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述催化劑添加組件(2)包括箱體(21)、輸送泵(22)、輸液管(23)以及抽液管(24),所述箱體(21)內盛裝有催化劑,所述輸送泵(22)設有與抽液管(24)連接的進水口以及與輸液管(23)連接的出水口,所述輸液管(23)的一端伸入至拋光盤(13)。
7.根據權利要求6所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述光催化組件(3)為可發射紫外線的扇形燈珠光源,所述扇形燈珠光源設于拋光盤(13)的側部。
8.根據權利要求6所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述兆聲波催化組件(4)包括夾具(41)、超聲波頭(42)及超聲波發生器(43),所述夾具(41)與拋光盤(13)側壁卡接,所述超聲波頭(42)設于夾具(41)朝向拋光盤(13)內側一側,所述超聲波發生器(43)與超聲波頭(42)電連接。
9.根據權利要求8所述的半導體基片用聲光磁復合拋光裝置,其特征在于,所述夾具(41)包括夾體(44)及連接架(45),所述夾體(44)及連接架(45)連接形成與拋光盤(13)側壁連接的卡接部;多組超聲波頭(42)等角度布置于夾體(44),所述夾體(44)設有與拋光盤(13)內壁面貼合的弧面。
10.一種半導體基片用聲光磁復合拋光方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1.將半導體基片安裝于拋光軸(12),調節半導體基片與拋光盤(13)底部間的間距;
S2.配制磁流變液并注入至拋光盤(13)內;
S3.在箱體(21)內配制催化劑,向拋光盤(13)內添加催化劑;
S4.開啟光催化組件(3),向拋光盤(13)內部磁流變液發射紫外光,催化產生羥基自由基,加速工件表面的氧化腐蝕;
S5.開啟兆聲波催化組件(4),向拋光盤(13)內部磁流變液發射兆聲波;
S6.開啟電磁組件(5)和驅動組件(6),電磁組件(5)在拋光盤(13)內形成磁場,驅動組件(6)驅動拋光盤(13)旋轉,實現半導體基片的聲、光、磁復合拋光。
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