[發明專利]一種遮光罩的制備方法、制備系統及遮光罩有效
| 申請號： | 201911336498.8 | 申請日： | 2019-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN111025631B | 公開（公告）日： | 2021-08-20 |
| 發明（設計）人： | 劉洋;張新;王靈杰;吳洪波;閆磊 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00;G03B11/04 |
| 代理公司： | 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹衛良 |
| 地址： | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 遮光 制備 方法 系統 | ||
1.一種遮光罩的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：
獲取遮光罩所適用的光學遙感器的系統參數，計算所述遮光罩的長度，所述遮光罩為方形；
根據光學系統入射光線與散射光線的角度確定對角視場方向擋光環的位置與深度；
獲取所述遮光罩邊長方向的視場，結合所述位置和所述深度確定所述遮光罩邊長方向口徑；
根據所述位置和所述深度以及所述遮光罩邊長方向口徑建立雜光分析模型進行雜光抑制分析；
選擇無雜光直接照射到所述遮光罩時的遮光罩模型參數，以根據所述遮光罩模型參數制備所述遮光罩；
所述系統參數包括所述光學遙感器的通光口徑、成像視場以及規避角度；
所述獲取遮光罩所適用的光學遙感器的系統參數，計算所述遮光罩的長度，包括：
根據所述通光口徑確定所述遮光罩對角線方向的尺寸；
根據如下公式計算所述遮光罩的長度L：L＝D×cot(α)，其中，D為所述遮光罩對角線方向的尺寸，α為所述規避角度；
所述擋光環包含至少兩級；
所述擋光環中第一擋光環的位置d1與深度h1的計算過程為：
h1＝d1×tan(α)，其中，ω為所述成像視場的1/2，Φ為所述光學遙感器的通光口徑；
所述擋光環中第n擋光環的位置dn與深度hn的計算過程為：
hn-1-hn＝(dn-dn-1)×tan(ω)，a2+bn＝dn-dn-1
其中，n為不小于2的正整數，所述光學遙感器上邊沿與第一擋光環定點連線延長線與筒壁的交點為O1，O1到第一擋光環的距離a2，到第n個環的距離為bn。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述遮光罩為一級遮光罩或N級遮光罩，N為不小于2的正整數。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述遮光罩中擋光環為豎直方向的擋光環。
4.一種遮光罩的制備系統，其特征在于，所述制備系統包括：
參數獲取模塊，用于獲取遮光罩所適用的光學遙感器的系統參數，計算所述遮光罩的長度，所述遮光罩為方形；
位置與深度計算模塊，用于根據光學系統入射光線與散射光線的角度確定對角視場方向擋光環的位置與深度；
口徑計算模塊，用于獲取所述遮光罩邊長方向的視場，結合所述位置和所述深度確定所述遮光罩邊長方向口徑；
分析模塊，用于根據所述位置和所述深度以及所述遮光罩邊長方向口徑建立雜光分析模型進行雜光抑制分析；
參數選擇模塊，用于選擇無雜光直接照射到所述遮光罩時的遮光罩模型參數，以根據所述遮光罩模型參數制備所述遮光罩；
所述系統參數包括所述光學遙感器的通光口徑、成像視場以及規避角度；
所述獲取遮光罩所適用的光學遙感器的系統參數，計算所述遮光罩的長度，包括：
根據所述通光口徑確定所述遮光罩對角線方向的尺寸；
根據如下公式計算所述遮光罩的長度L：L＝D×cot(α)，其中，D為所述遮光罩對角線方向的尺寸，α為所述規避角度；
所述擋光環包含至少兩級；
所述擋光環中第一擋光環的位置d1與深度h1的計算過程為：
h1＝d1×tan(α)，其中，ω為所述成像視場的1/2，Φ為所述光學遙感器的通光口徑；
所述擋光環中第n擋光環的位置dn與深度hn的計算過程為：
hn-1-hn＝(dn-dn-1)×tan(ω)，a2+bn＝dn-dn-1
其中，n為不小于2的正整數，所述光學遙感器上邊沿與第一擋光環定點連線延長線與筒壁的交點為O1，O1到第一擋光環的距離a2，到第n個環的距離為bn。
5.一種遮光罩，其特征在于，所述遮光罩通過1-4任一項所述的遮光罩的制備方法制備而成。
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