[發明專利]心電圖輔助PICC導管尖端定位高仿真教具

有效

• 申請號: 201911335838.5
• 申請日: 2019-12-20
• 公開（公告）號: CN110992800B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 寇京莉;張瑩
• 申請（專利權）人: 首都醫科大學宣武醫院
• 主分類號: G09B23/28
• 分類號: G09B23/28
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129
• 代理人: 何志欣

本發明涉及心電圖輔助PICC導管尖端定位高仿真教具，所述高仿真教具至少包括：模擬血管組件，其為PICC導管的介入對象，且其配置有沿其長度方向分別布置的用于輔助PICC導管尖端定位的第一光纖組件和第二光纖組件，中央處理模塊，其裝配于所述高仿真教具上且與所述第一光纖組件和所述第二光纖組件分別進行信息交互，其中，所述中央處理模塊被配置為：指示所述第一引導組件對所述第一光纖組件實施第一觸發事件以在所述第一光纖組件的觸發狀態下生成關于PICC導管的位置信息，和/或在所述第二光纖組件的觸發狀態下生成關于所述PICC導管的位置信息以及關于當前第一用戶的操作風險評估信息。

技術領域

本發明涉及PICC介入訓練操作模型領域，尤其涉及心電圖輔助PICC導管尖端定位高仿真教具。

背景技術

惡性腫瘤患者選擇靜脈輸液進行化學藥物治療時，多選擇經外周靜脈置入中心靜脈導管(Peripherally inserted central catheter，PICC)，該血管通道能為需要長期及反復靜脈治療的患者提供長期、安全、可靠的靜脈通道。PICC，即經外周靜脈穿刺，外周靜脈包括肘正中靜脈、貴要靜脈、頭靜脈、肱靜脈等，最終將導管尖端放置于上腔靜脈(SuperiorVena Cava，SVC)的中長期中心靜脈輸液工具，1929年德國醫生Forssmaon從病人肘前靜脈穿刺，將一根長35cm的4Fr導管放置到上腔靜脈，置管后使用X線確定導管尖端位置正確與否以排除導管進入到右心房，從此開創了經外周置入中心靜脈導管的輸液史。其材質通常為硅膠或聚氨脂等材料制成，導管上標有刻度，能夠在放射下顯影。導管尖端位于SVC內、SVC外或SCV內的部位不同，導管相關性并發癥的發生概率亦不同。這是因為導管尖端位于SVC下1/3靠近SVC/RA交界處，該位置血壓低，導管易遵循血流動力學順血流向下在血管內漂浮并平行于血管內壁，從而避免了導管尖端與血管內壁的長期接觸而造成的血管內膜機械性損傷，此外此處血流較大，輸注的藥物可被迅速稀釋，有效避免了刺激性藥物對血管內膜的損傷。當導管尖端位于SVC上段或中段時，導管尖端隨血流在上腔靜脈內擺動的幅度較大，因此繼發性移位的發生概率較高且由于導管尖端對血管壁的機械性損傷及繼發性的化學性損傷概率增加，從而使血栓等相關并發癥的發生幾率大大增加。導管尖端位于非SVC下1/3段時，導管尖端與SVC血管壁夾角增加，特別是從左側置入中心靜脈導管時，導管與SVC管壁呈一定角度的發生概率更大。體外研究表明當中心靜脈的導管末端與SVC血管內壁夾角大于40゜時其發生靜脈穿孔的概率將大大增加。同樣若導管置入長度過長，尖端進入到右心房，會影響心臟瓣膜功能、可能導致心悸、胸悶甚至出現心律失常、心包填塞等嚴重并發癥，心包填塞的發生率雖低，但其致死率較高。綜上所述，導管尖端是否位于正常位置對于保證患者安全、使導管的衛生經濟學效益達到最優化具有重要的作用。患者體位改變對中心靜脈導管尖端在SVC內位置的移動影響是顯著的。導管尖端移動的方向和距離與以下幾個因素有關包括導管的類型、材質、置管靜脈、患者體位等。

PICC有諸多優點：與外周靜脈短留置針相比，PICC可有效減少藥物外滲、化學性靜脈炎的發生，一針完成所有治療，避免因頻繁靜脈穿刺和化療藥物外滲給患者帶來的痛苦。PICC與其他中心靜脈導管(Central-venous ca theter，CVC)相比，具有操作時間短，穿刺成功率高，相關并發癥發生率低等優點，加上近些年來操作技術的革新，使其在操作、患者舒適度、相關并發癥等方面優勢更加顯著，得到越來越廣泛應用。據報道，2007年全球約有1400萬患者使用中心靜脈，其中PICC的使用量約330萬并以每年10％～20％的速度增長。PICC在臨床中應用顯示著諸多優勢的同時，也存在一定的不足。其中如何將導管尖端置于以及帶管過程中始終處于正確位置一直是亟待解決的一個臨床問題。導管尖端位置正確與否對維持導管的正常功能，減少相關并發癥的發生有重要意義。其中置管時導管放置位置的正確與否至關重要，選擇可視化的相關輔助技術能夠有效提高導管尖端到位率、減少異位、堵管、PICC相關性血栓等并發癥的發生，從而降低非計劃性拔管率，節約醫療資源，提高患者滿意度。