[發明專利]一種薄膜體聲波諧振器及其制備方法

有效

• 申請號: 201911333656.4
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN111010127B
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 孫成亮;粘來霞;蔡耀;高超;鄒楊;謝英;劉炎;周杰;徐沁文
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: H03H9/02
• 分類號: H03H9/02;H03H9/17
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 許蓮英

1.一種薄膜體聲波諧振器，其特征在于，包括：基底、空腔和壓電堆疊結構；

所述空腔位于所述基底上且位于所述壓電堆疊結構下方；

所述壓電堆疊結構從下而上依次為底電極、壓電材料層和頂電極；

所述壓電堆疊結構上設有釋放孔用于釋放犧牲層從而制備空腔；

所述壓電材料層由壓電材料有效區域、壓電材料外部區域、錨組成；

所述壓電材料有效區域的每一條邊上都設有所述錨，且每一條邊上所述錨的數量大于0，所述壓電材料有效區域與所述壓電材料外部區域通過每一條邊上所述的錨相連；

所述壓電材料有效區域面積小于所述空腔面積；

壓電材料有效區域通過錨的支撐懸浮在空腔上方；

所述底電極的形狀、所述頂電極的形狀、所述壓電材料有效區域的形狀均為任意相同多邊形，且所述底電極的形狀、所述頂電極的形狀、所述壓電材料有效區域的形狀空間上相互平行，且所述底電極的形狀、所述頂電極的形狀、所述壓電材料有效區域的形狀的對應定點在一條直線上。

2.根據權利要求1所述的薄膜體聲波諧振器，其特征在于：

所述底電極的形狀、所述頂電極的形狀、所述壓電材料有效區域的形狀為五邊形。

3.一種運用于權利要求1所述的薄膜體聲波諧振器進行薄膜體聲波諧振器的制備方法，其特征在于，包括步驟：

S1，在基底上刻蝕空腔；

S2，在基底上沉積犧牲層；

S3，刨除多余的犧牲層，使得保留的犧牲層剛好填滿空腔；

S4，在基底和犧牲層上面沉積底電極；

S5，刻蝕多余的底電極，形成需要的底電極的形狀；

S6，通過步驟S5在底電極的上方沉積壓電材料；

S7，在壓電材料層上方沉積頂電極；

S8，刻蝕多余的頂電極，形成需要的頂電極的形狀；

S9，刻蝕壓電材料，形成壓電材料有效區域、壓電材料外部區域和錨；

S10，在壓電堆疊結構上刻蝕釋放孔；

S11，通過腐蝕液或者腐蝕氣體釋放空腔，形成薄膜體聲波諧振器。