[發明專利]器官支架制備裝置和器官支架制備方法

在審

• 申請號: 201911332231.1
• 申請日: 2019-12-22
• 公開（公告）號: CN111658827A
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 董明清;陳鍵;王璞;劉凱峰
• 申請（專利權）人: 西安定華電子股份有限公司
• 主分類號: A61L31/00
• 分類號: A61L31/00;G01N21/59
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種器官支架制備裝置，其特征在于，所述器官支架制備裝置包括：控制器、補液組件、防氣罐、灌注組件、透明罐、光源、光度計以及箱體，所述防氣罐、所述灌注組件、所述透明罐、所述光源以及所述光度計均位于所述箱體內；

所述透明罐用于放置器官，所述補液組件和所述灌注組件均連通所述防氣罐，所述灌注組件還連通所述器官的動脈，所述光源和所述光度計均位于所述透明罐外且分別設置在所述器官的兩側；所述控制器用于：

控制所述補液組件向所述防氣罐補充脫細胞液；

控制所述灌注組件將所述防氣罐內的液體灌注至所述器官的動脈；

控制所述光源照射所述器官，并控制所述光度計監測所述器官的透光度；

在所述光度計監測到的透光度到達給定透光度范圍后，控制所述灌注組件停止。

2.根據權利要求1所述的器官支架制備裝置，其特征在于，所述器官支架制備裝置還包括：第一液位監測組件，所述第一液位監測組件固定在所述防氣罐的側壁；所述控制器還用于：

控制所述第一液位監測組件監測所述防氣罐內液體的液位；

在所述防氣罐內液體的液位到達第一低位后，控制所述灌注組件將所述防氣罐內的液體灌注至所述器官的動脈，且所述灌注組件的灌注速率小于所述補液組件的補液速率；

在所述防氣罐內液體的液位到達第一高位后，控制所述補液組件暫停；

在所述防氣罐內液體的液位低于所述第一低位后，控制所述補液組件向所述防氣罐補充所述脫細胞液。

3.根據權利要求2所述的器官支架制備裝置，其特征在于，所述器官支架制備裝置還包括：第一廢液排出組件、第一廢液罐以及第二液位監測組件，所述透明罐內固定設置有網罩，所述網罩用于承載所述器官，所述第一廢液排出組件連通所述透明罐和所述第一廢液罐，所述第二液位監測組件固定在所述透明罐的側壁；

所述控制器還用于：

控制所述第二液位監測組件監測所述透明罐內液體的液位；

在所述透明罐內液體的液位到達第二高位后，控制所述第一廢液排出組件將所述透明罐內的液體排至所述第一廢液罐，所述灌注組件的灌注速率小于所述第一廢液排出組件的排出速率；

在所述透明罐內液體的液位低于第二低位后，控制所述第一廢液排出組件暫停，所述第二高位所在位置的高度和所述第二低位所在位置的高度均低于所述網罩所在位置的高度。

4.根據權利要求3所述的器官支架制備裝置，其特征在于，所述器官支架制備裝置還包括：第二廢液排出組件和第二廢液罐，所述第二廢液排出組件連通所述第二廢液罐和所述防氣罐，所述控制器還用于：

在所述光度計監測到的透光度到達所述給定透光度范圍后，控制所述補液組件不再向所述防氣罐補充所述脫細胞液，并控制所述灌注組件暫停，以及控制所述第二廢液排出組件將所述防氣罐內的液體排至所述第二廢液罐；

在所述防氣罐內液體的液位低于所述第一低位后，控制所述第二廢液排出組件暫停，并控制所述補液組件向所述防氣罐補充活性液；

在所述防氣罐內液體的液位到達所述第一低位后，控制所述灌注組件將所述防氣罐內的液體灌注至所述器官的動脈；

在所述防氣罐內液體的液位到達所述第一高位后，控制所述補液組件暫停；

在所述灌注組件灌注給定時長后，控制所述灌注組件停止。

5.根據權利要求1至4任一所述的器官支架制備裝置，其特征在于，所述箱體包括：外箱、內箱以及加熱件，所述外箱包裹所述內箱，所述加熱件位于所述外箱和所述內箱之間，所述內箱內設置有水浴槽和測溫元件，所述防氣罐和所述透明罐均放置在所述水浴槽內；所述控制器還用于：

控制所述測溫元件監測所述水浴槽內的溫度，在所述水浴槽內的溫度超出給定溫度范圍后，調節所述加熱件的發熱功率，以使所述水浴槽內的溫度恢復至所述給定溫度范圍。