[發明專利]電子設備殼體及其制備方法和電子設備

有效

• 申請號: 201911329464.6
• 申請日: 2019-12-20
• 公開（公告）號: CN111002748B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 楊鑫
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: B44C1/22
• 分類號: B44C1/22;B44C3/02;B44C5/04;B44F1/08;H04M1/02
• 代理公司: 北京知帆遠景知識產權代理有限公司 11890
• 代理人: 徐靜

1.一種制備電子設備殼體的方法，其特征在于，包括：

對玻璃基材的至少部分外表面進行蝕刻，以形成預制紋理；

對所述預制紋理進行CNC加工，以形成立體紋理，相鄰所述立體紋理之間不連通，

所述CNC加工用于以下的至少之一：

對所述預制紋理進行加深；

對所述預制紋理進行加寬；

改變所述預制紋理的橫截面形狀，

其中，所述立體紋理的線寬與所述預制紋理的線寬的差值不小于0.5mm；

所述立體紋理的深度與所述預制紋理的深度的差值為0.1~1.5mm；

所述預制紋理滿足以下條件的至少之一：

具有相同形狀的多個所述預制紋理的深度保持一致，

具有相同形狀的多個所述預制紋理的寬度保持一致；

所述蝕刻包括：

在所述玻璃基材的外表面上形成感光耐酸膜；

在所述感光耐酸膜遠離所述玻璃基材的一側形成具有預設紋理圖案的菲林，并在所述菲林遠離所述玻璃基材的一側對所屬感光耐酸膜進行曝光；

對曝光后的感光耐酸膜進行顯影，得到圖案化感光耐酸膜；

使未被所述圖案化感光耐酸膜覆蓋的所述玻璃基材與蝕刻液相接觸，以形成所述預制紋理；

去除所述圖案化感光耐酸膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述預制紋理的深度為100-500微米。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述感光耐酸膜滿足以下條件的至少之一：

所述感光耐酸膜通過噴涂、絲印或移印方式制備；

所述感光耐酸膜的厚度為5-15微米。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述立體紋理的深度為0.2~1.5mm。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述立體紋理的深度增大的方向上，所述立體紋理寬度方向上相對的兩個側壁逐漸向彼此靠近。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述立體紋理的橫截面形狀包括梯形、三角形、正弦曲線和余弦曲線中的至少一種。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基材滿足以下條件的至少之一：

所述玻璃基材為非強化玻璃基材；

所述玻璃基材的厚度為0.5~2.5mm。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

對所述立體紋理進行拋光和掃光處理；及

對經過所述拋光和掃光處理的所述玻璃基材進行強化處理。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，還包括：

在所述玻璃基材背離所述立體紋理的表面上形成裝飾膜層。

10.一種電子設備殼體，其特征在于，是利用權利要求1~9中任一項所述的方法制備得到的。

11.一種電子設備，其特征在于，包括：

權利要求10所述的電子設備殼體，所述電子設備殼體限定出容納空間；及

顯示屏，所述顯示屏設置在所述容納空間中。