[發明專利]一種漏斗形離子導向裝置及具有其的質譜儀

在審

• 申請號: 201911325036.6
• 申請日: 2019-12-20
• 公開（公告）號: CN111081528A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 郭騰;張健鋒;黃正旭;高偉;李雪;周振
• 申請（專利權）人: 暨南大學
• 主分類號: H01J49/06
• 分類號: H01J49/06;H01J49/26
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 盧倩

1.一種漏斗形離子導向裝置，其特征在于：包括射頻驅動電源、電極線和呈漏斗形的絕緣柱；所述絕緣柱的內部中空為離子傳輸腔，所述絕緣柱的大徑端開有與離子傳輸腔連通的離子入口，所述絕緣柱的小徑端開有與離子傳輸腔連通的離子出口，所述絕緣柱的外壁沿絕緣柱的中心軸線開有兩條相互平行的螺旋線槽，兩根所述電極線分別纏繞于對應的螺旋線槽中，兩根所述電極線的一端分別與射頻驅動電源的兩端連接，兩根所述電極線的另一端固定于螺旋線槽。

2.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述離子傳輸腔具有與離子入口相對應的大徑端和與離子出口相對應的小徑端。

3.根據權利要求2所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述絕緣柱的長度為50mm～150mm，壁厚為2mm～4mm。

4.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述絕緣柱采用聚四氟材料制成。

5.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述離子入口的內徑為20mm～50mm，所述離子出口的內徑為0.5mm～5mm。

6.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述螺旋線槽的截面呈矩形或半圓形，其槽寬為0.5mm～1mm，其槽深為1mm，其螺距為2mm～10mm，兩條螺旋線槽之間的直線距離為螺距的一半。

7.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述電極線為金屬絲，其直徑為0.5mm～1mm。

8.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述電極線為的不銹鋼絲或銅絲，其直徑為0.5mm～1mm。

9.根據權利要求1所述的漏斗形離子導向裝置，其特征在于：所述射頻驅動電源輸出的信號為正弦波、矩形波、三角波或鋸齒波，其頻率為500KHz～5MHz，其峰值為50V～1500V。

10.一種質譜儀，其特征在于：包括如權利要求1-9中任一項所述的漏斗形離子導向裝置。