[發明專利]一種具有全息防偽效果的復合材料及其制作方法在審
| 申請號: | 201911323487.6 | 申請日: | 2019-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN113002212A | 公開(公告)日: | 2021-06-22 |
| 發明(設計)人: | 朱昊樞;葉瑞;左志成;劉曉寧;劉朋;任家安;王建強;魏國軍;孫菁;陳林森;朱志堅 | 申請(專利權)人: | 蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | B42D25/328 | 分類號: | B42D25/328;B42D25/40;B42D25/45;B44C5/04;G02B5/32 |
| 代理公司: | 蘇州簡理知識產權代理有限公司 32371 | 代理人: | 楊曉東 |
| 地址: | 215123 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 全息 防偽 效果 復合材料 及其 制作方法 | ||
1.一種具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:其包括全息層、介質鍍層、保護層;
所述全息層包括有支撐層,和形成于所述支撐層表面的全息防偽微納結構;
所述透明介質鍍層形成于所述全息層上并覆蓋所述全息防偽微納結構;
所述保護層形成于透明介質鍍層上,所述保護層由UV光固化涂料涂層和/或熱固性涂料涂層固化而成。
2.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述保護層包括低聚物、稀釋劑、光引發劑、偶聯劑。
3.如權利要求2所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述低聚物為脲改性多異氰酸酯或氟改性丙烯酸酯,所述稀釋劑為TMPTA、HDDA、TPGDA、IBOA或2-EHA,所述光引發劑為651光引發劑、1173光引發劑或184光引發劑,所述偶聯劑為硅烷偶聯劑或鈦酸酯偶聯劑。
4.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于;所述透明介質層與保護層之間還設置有黏結層,所述黏結層形成于所述透明介質層上,所述保護層形成于所述黏結層上。
5.如權利要求4所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述黏結層是由偶聯劑固化而成,所述黏結層的厚度在0.1-15微米之間。
6.如權利要求5所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述偶聯劑為改性硅氧烷和改性丙烯酸酯,所述黏結層的厚度在0.1-10微米之間。
7.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:
所述全息層的支撐層為PC薄膜層;
所述全息防偽微納結構由PC薄膜層表面直接壓印形成;
或者所述PC薄膜層的表面涂有熱固性涂料涂層,在熱固性涂料涂層上壓印形成所述全息防偽微納結構;
或者所述PC薄膜層的表面涂有UV光固化涂料涂層,在UV光固化涂料涂層上壓印形成所述全息防偽微納結構。
8.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述全息層的全息防偽微納結構覆蓋了所述復合材料一面的整個表面或兩面的整個表面。
9.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述透明介質層為二氧化鈦或五氧化二鈮或二氧化鋯層,或者由其它折射率大于1.8的陶瓷材料構成。
10.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述保護層遠離所述全息層的表面上壓印形成有微透鏡陣列,所述微透鏡陣列由同尺寸/不同尺寸的透鏡陣列規則/隨機排列。
11.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述全息層的厚度在100-130微米之間;所述透明介質層的厚度在10-100納米之間;所述保護層為UV膠經光固化而成,厚度在1-30微米之間。
12.如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料,其特征在于:所述透明介質層的厚度在10-200納米之間,折射率大于1.8;所述保護層為UV膠經光固化而成,厚度在0.5-50微米之間。
13.一種如權利要求1所述的具有全息防偽效果的復合材料的制作方法,其特征在于:
提供全息層的支撐層,在支撐層的一表面上涂布有UV光固化涂料涂層或熱固性涂料涂層,然后在涂層上壓印有全息防偽微納結構;
在全息層的全息防偽微納結構上鍍上透明介質鍍層;
在透明介質鍍層的表面涂布UV光固化涂料和/或熱固性涂料并固化,形成保護層,至此得到所述復合材料。
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