[發(fā)明專(zhuān)利]一種增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911322546.8
• 申請(qǐng)日: 2019-12-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111122448A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐進(jìn);陳勝貴;陳海彬;孫振忠
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東莞理工學(xué)院
• 主分類(lèi)號(hào): G01N21/17
• 分類(lèi)號(hào): G01N21/17;G01L5/00
• 代理公司: 廣東勤諾律師事務(wù)所 44595
• 代理人: 張雪華

1.一種增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，包括：

準(zhǔn)備階段，將基板打磨拋光，用丙酮對(duì)所述基板做進(jìn)一步清洗處理；

試驗(yàn)階段，在多個(gè)所述基板上一一對(duì)應(yīng)的采用單變量法而增材制造出多個(gè)樣品，所述單變量法包括控制激光功率、控制粉晶送粉速度和控制掃描速度；

取樣階段，分割所述多個(gè)樣品，得到每個(gè)樣品的多個(gè)橫截切面；

分析階段，分析所述每個(gè)樣品的多個(gè)橫截切面的激光能量密度殘余應(yīng)力、粉晶密度殘余應(yīng)力以及激光比能量殘余應(yīng)力，并歸類(lèi)；

成譜階段，歸類(lèi)后根據(jù)所述激光能量密度殘余應(yīng)力、所述粉晶密度殘余應(yīng)力、以及所述激光比能量殘余應(yīng)力的變化生成圖譜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，所述基板的材料為T(mén)A15鈦合金。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，所述分割所述多個(gè)樣品，得到每個(gè)樣品的多個(gè)橫截切面的步驟，包括：采用等比切割法分割所述多個(gè)樣品。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，所述分析所述每個(gè)樣品的多個(gè)橫截切面的激光能量密度殘余應(yīng)力的步驟，包括：分析所述多個(gè)橫截切面的顏色焦黑程度，以分析所述多個(gè)橫截切面的激光能量密度殘余應(yīng)力。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，分析所述每個(gè)樣品的多個(gè)橫截切面粉晶密度殘余應(yīng)力的步驟包括：對(duì)所述多個(gè)橫截切面進(jìn)行壓痕法處理，以得到所述多個(gè)橫截切面的粉晶密度殘余應(yīng)力。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，所述分析所述每個(gè)樣品的多個(gè)橫截切面的激光比能量殘余應(yīng)力的步驟，包括：采用預(yù)設(shè)公式，根據(jù)設(shè)定好的激光功率、粉晶送粉速度和掃描速度分析出多個(gè)橫截切面的激光比能量殘余應(yīng)力。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造圖譜式應(yīng)力分析方法，其特征在于，所述成譜階段的步驟之后，還包括：推薦階段，比對(duì)所述激光能量密度殘余應(yīng)力、所述粉晶密度殘余應(yīng)力、以及所述激光比能量殘余應(yīng)力的圖譜，推導(dǎo)出殘余應(yīng)力值最小的圖譜。