[發明專利]一種充放電MOS保護電路在審
| 申請號: | 201911321965.X | 申請日: | 2019-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN111030223A | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發明(設計)人: | 禹成海 | 申請(專利權)人: | 蘇州妙益科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H02J7/00 | 分類號: | H02J7/00;H02H3/08;H02H7/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市蘇州工業園區金雞湖大道*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 放電 mos 保護 電路 | ||
本發明一種充放電MOS保護電路,包括電池以及保護電路,所述保護電路包括電流取樣電阻RS、放電控制mosQD、充電控制mosQC,還包放電mos保護穩壓管ZD、放電mos保護電容CD、充電mos保護穩壓管ZC、充電mos保護電容CC,其中所述電流取樣電阻RS用于CPU測量電流,所述放電mos保護穩壓管ZD以及充電mos保護穩壓管ZC提供限壓保護,本發明放電mos保護電容CD以及充電mos保護電容CC具有吸收尖峰能力,與放電mos保護穩壓管ZD以及充電mos保護穩壓管ZC配合保護mos管,切斷越快、反壓越高,mos切斷后,利用對電容的充放電,降低電流變化率,進而降低反壓。
技術領域
本發明涉及電池充放電技術領域,尤其涉及一種充放電MOS保護電路。
背景技術
MOS管,是MOSFET的縮寫。MOSFET金屬-氧化物半導體場效應晶體管,簡稱金氧半場效晶體管,一般是金屬(metal)—氧化物(oxide)—半導體(semiconductor)場效應晶體管,或者稱是金屬—絕緣體(insulator)—半導體。MOS管的source(源極)和drain(耗盡層)是可以對調的,他們都是在P型backgate中形成的N型區。在多數情況下,這個兩個區是一樣的,即使兩端對調也不會影響器件的性能。這樣的器件被認為是對稱的。場效應管分為PMOS管和NMOS管,屬于絕緣柵場效應管。
電池在充放電工程中,如果沒有保護的情況下,大電流時切斷充電mos或者放電mos時,根據電路理論會形成反壓,當反壓超出mos管耐壓時,會損壞mos管。
發明內容
基于上述技術缺陷,本發明提供一種充放電MOS保護電路,放電mos保護電容CD以及充電mos保護電容CC具有吸收尖峰能力,與放電mos保護穩壓管ZD以及充電mos保護穩壓管ZC配合保護mos管。
本發明一種充放電MOS保護電路,包括電池以及保護電路,所述保護電路包括電流取樣電阻RS、放電控制mosQD、充電控制mosQC,還包放電mos保護穩壓管ZD、放電mos保護電容CD、充電mos保護穩壓管ZC、充電mos保護電容CC,其中所述電流取樣電阻RS用于CPU測量電流,所述放電mos保護穩壓管ZD以及充電mos保護穩壓管ZC提供限壓保護。
進一步,所述電流取樣電阻RS與電池1電極連接,所述放電控制mosQD與電流取樣電阻RS連接,所述放電mos保護穩壓管ZD以及放電mos保護電容CD分別與放電控制mosQD連接。
進一步,所述充電控制mosQC與電流取樣電阻RS連接,所述充電mos保護穩壓管ZC以及充電mos保護電容CC分別與所述充電控制mosQC連接。
進一步,所述保護電路的參數為,反應時間L為線路電感,di、dt為電流變化率,所述參數選擇為為VDB<VQB,RC>TB。
進一步,所述VDB為放電mos保護穩壓管ZD、充電mos保護穩壓管ZC的穩壓值,所述VQB為放電控制mosQD、充電控制mosQC的耐壓值,R為電路的等效電阻,C為放電mos保護電容CD、充電mos保護電容CC的容值,TB為放電mos保護穩壓管ZD、充電mos保護穩壓管ZC的反應時間。
本發明一種充放電MOS保護電路,放電mos保護電容CD以及充電mos保護電容CC具有吸收尖峰能力,與放電mos保護穩壓管ZD以及充電mos保護穩壓管ZC配合保護mos管,切斷越快、反壓越高,mos切斷后,利用對電容的充放電,降低電流變化率,進而降低反壓。
附圖說明
圖1為本發明電路圖。
其中:1、電池;2、保護電路。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明作進一步說明。
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