[發(fā)明專利]用于檢查和校準(zhǔn)組件的設(shè)備和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911320492.1 | 申請(qǐng)日： | 2019-12-19 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111505554A | 公開（公告）日： | 2020-08-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | O·卡瓦萊茨;M·科爾尼爾斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | TDK-邁克納斯有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G01R35/00 | 分類號(hào)： | G01R35/00 |
| 代理公司： | 北京市磐華律師事務(wù)所 11336 | 代理人： | 初曉琳 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 檢查 校準(zhǔn) 組件 設(shè)備 方法 | ||
1.一種用于檢查和/或校準(zhǔn)組件(30)的設(shè)備(10)，包括：
樣本保持器(20)，所述樣本保持器(20)具有用于接收至少一個(gè)組件(30)的模塊(28)；
至少一個(gè)磁場(chǎng)發(fā)生器(60a、60b、60c)，所述至少一個(gè)磁場(chǎng)發(fā)生器(60a、60b、60c)用于產(chǎn)生圍繞所述模塊(28)的磁場(chǎng)(45)；
入口(40)，所述入口(40)用于將回火介質(zhì)供給至所述模塊(28)；以及
出口(45)，所述出口(45)用于從所述模塊(28)排出回火介質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10)，其中所述樣本保持器(20)具有用于將所述回火介質(zhì)從所述入口(40)引導(dǎo)進(jìn)入所述模塊(28)的至少一個(gè)進(jìn)入開口(22)，以及所述回火介質(zhì)從所述模塊(28)至所述出口(45)的至少一個(gè)排出開口(24)并且
其中所述至少一個(gè)組件(30)布置在所述進(jìn)入開口(22)與所述排出開口(24)之間。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述樣本保持器(20)由兩個(gè)部分(20o、20u)組成，并且所述模塊(29)中的空腔(25)或由所述兩個(gè)部分(20o、20u)中的互相相對(duì)的凹部形成，或在所述兩個(gè)部分(20o、20u)中的一個(gè)中形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，還包括用于將所述樣本保持器(20)的所述兩個(gè)部分壓在一起的可移動(dòng)元件。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述入口(40)和所述出口(45)布置為使得所述樣本保持器(20)可以定位在所述入口(40)與所述出口(45)之間。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述磁場(chǎng)發(fā)生器(60a、60b、60c)包括多個(gè)線圈。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備(10)，其中所述線圈(60a、60b、60c)彼此正交地布置。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述磁場(chǎng)發(fā)生器(60a、60b、60c)構(gòu)建為亥姆霍茲線圈系統(tǒng)的類型，并且所產(chǎn)生的磁場(chǎng)大部分是均勻的。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述磁場(chǎng)發(fā)生器(60a、60b、60c)包括圍繞所述模塊(28)的多個(gè)線圈對(duì)(60a、60b、60c)。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述至少一個(gè)組件(30)布置在所述線圈(60a、60b、60c)的軸線的共同的交點(diǎn)(15)上/周圍。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述樣本保持器(20)具有用于接觸所述組件(30)的多個(gè)連接元件(26)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備(10)，還包括用于接觸所述樣本保持器(20)的多個(gè)可移動(dòng)接觸銷。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所述樣本保持器(20)具有將所述回火介質(zhì)引導(dǎo)為圍繞所述組件(30)的引導(dǎo)通道(27)。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，其中所述至少一個(gè)組件(30)具有接觸線纜，所述回火介質(zhì)圍繞所述接觸線纜流動(dòng)。
15.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)，還包括用于控制所述回火介質(zhì)的溫度的控制裝置。
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