[發(fā)明專利]光刻機對位方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911308814.0 | 申請日： | 2019-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN111007703B | 公開（公告）日： | 2021-08-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李玉華;吳長明;姚振海;金樂群;黃發(fā)彬 | 申請（專利權(quán)）人： | 華虹半導體（無錫）有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人： | 羅雅文 |
| 地址： | 214028 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 對位 方法 | ||
1.一種光刻機對位方法，其特征在于，所述方法包括：
利用對位光斑周期性掃描晶圓上的對位標記，并獲取每條掃描路徑對應(yīng)的強度位置相關(guān)性圖，所述強度位置相關(guān)性圖根據(jù)對位標記信號強度和對位標記位置確定；
根據(jù)所述強度位置相關(guān)性圖，確定每條掃描路徑對應(yīng)的多重相關(guān)系數(shù)和晶圓對位信號強度；
根據(jù)所述多重相關(guān)系數(shù)和所述晶圓對位信號強度，計算出每條掃描路徑對應(yīng)的評估值；
將最大評估值對應(yīng)的掃描路徑確定為最佳掃描路徑，所述最佳掃描路徑用于定義對位標記的位置；
其中，所述評估值按如下公式計算：
評估值＝多重相關(guān)系數(shù)*多重相關(guān)系數(shù)*晶圓對位信號強度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用對位光斑周期性掃描晶圓上的對位標記，并獲取每條掃描路徑對應(yīng)的強度位置相關(guān)性圖；
利用所述對位光斑周期性掃描所述晶圓上的對位標記；
在每次掃描時，獲取每個對位標記對應(yīng)的對位標記位置和標記信號強度；
根據(jù)所述每個對位標記對應(yīng)的對位標記位置和標記信號強度，確定每條掃描路徑對應(yīng)的強度位置相關(guān)性圖，所述強度位置相關(guān)性圖的橫坐標為對位標記位置，所述強度位置相關(guān)性圖的縱坐標為標記信號強度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述強度位置關(guān)系圖，確定每條掃描路徑對應(yīng)的多重相關(guān)系數(shù)和晶圓對位信號強度，包括：
獲取標準強度位置關(guān)系圖，以及根據(jù)所述標準強度位置關(guān)系圖和所述強度位置相關(guān)性圖的擬合程度，確定所述每條掃描路徑對應(yīng)的多重相關(guān)系數(shù)；
根據(jù)所述強度位置相關(guān)性圖中特征點的標記信號強度，確定所述每條掃描路徑對應(yīng)的晶圓對位信號強度；所述特征點左右兩側(cè)的點對應(yīng)的標記信號強度小于所述特征點的標記信號強度；
其中，所述標準強度位置關(guān)系圖包括每個對位標記對應(yīng)的標準對位標記位置和標準對位信號強度，所述標準強度位置關(guān)系圖為鋸齒形圖形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述標準強度位置關(guān)系圖和所述強度位置相關(guān)性圖的擬合程度，確定所述每條掃描路徑對應(yīng)的多重相關(guān)系數(shù)，包括：
將所述標準位置關(guān)系圖分段得到若干個標準分段線，每段標準分段線呈線性；
針對每條掃描路徑，將所述掃描路徑對應(yīng)的強度位置相關(guān)性圖分段，根據(jù)每段中的對位標記位置和標記信號強度進行線性擬合，得到若干個擬合分段線，每段擬合分段線呈線性；
將所述標準分段線與所述擬合分段線一一對應(yīng)，計算每段所述標準分段線與所述擬合分段線的擬合程度值；
對全部擬合程度值求平均，得到所述掃描路徑對應(yīng)的多重相關(guān)系數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述強度位置相關(guān)性圖中特征點的標記信號強度，確定所述每條掃描路徑對應(yīng)的晶圓對位信號強度，包括：
針對每條掃描路徑，對所述強度位置相關(guān)性圖中的全部特征點的標記信號強度求平均，得到所述晶圓對位信號強度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
根據(jù)所述最佳掃描路徑確定的對位標記位置進行精對位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述利用對位光斑周期性掃描晶圓上的對位標記，包括：
當所述對位標記的寬度大于或等于80um時，利用所述對位光斑掃描所述對位標記2次；
當所述對位標記的寬度小于80um時，利用所述對位光斑掃描所述對位標記5次。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述掃描路徑相互平行。
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