[發明專利]發光裝置在審
| 申請號： | 201911308229.0 | 申請日： | 2019-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN111336471A | 公開（公告）日： | 2020-06-26 |
| 發明（設計）人： | 廖怡惠;李順昌 | 申請（專利權）人： | 億光電子工業股份有限公司 |
| 主分類號： | F21S43/31 | 分類號： | F21S43/31;F21S43/40;F21S43/14;F21W103/00;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 羅英;劉芳 |
| 地址： | 中國臺灣新*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 發光 裝置 | ||
1.一種發光裝置，包括：
電路基板；
光源，設置于所述電路基板上；
至少一反射元件，鄰設于所述光源，各所述至少一反射元件包括反射面；
光學元件，所述光學元件包括透光元件和干涉元件，所述干涉元件設置于所述透光元件下；
其中，所述至少一反射元件及所述光學元件位于所述光源發出的光線的路徑上，使所述光線可受所述至少一反射元件反射后，經所述干涉元件自所述透光元件射出；
其中，所述干涉元件具有破壞性干涉方向，所述反射面的延伸方向與所述破壞性干涉方向為不平行，俾使自所述透光元件射出的所述光線產生多個并列的細窄狀光型。
2.根據權利要求1所述的發光裝置，其中，所述至少一反射元件包括二反射元件，對稱地鄰設于所述光源的二相對側。
3.根據權利要求1所述的發光裝置，其中，所述至少一反射元件包括四反射元件，等間隔地鄰設于所述光源的周圍。
4.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述反射面沿遠離所述光源的方向呈平面。
5.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述反射面沿遠離所述光源的方向呈曲面。
6.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述反射面的后側相對于所述電路基板具有角度，所述角度不小于所述光源發光角度補角的一半。
7.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述反射面及所述光學元件位于所述光源的相對側。
8.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述反射面與所述光源之間具有最短直線距離，所述最短直線距離不大于10毫米。
9.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述反射面與所述光源之間具有最短直線距離，所述最短直線距離不大于6毫米。
10.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述至少一反射元件為至少一塊體或至少一板體。
11.根據權利要求1的發光裝置，其中，所述至少一反射元件設置于所述電路基板。
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