[發(fā)明專利]一種可調(diào)諧的超聲傳感器陣列有效
申請?zhí)枺?/td> | 201911308045.4 | 申請日: | 2019-12-18 |
公開(公告)號: | CN111001553B | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫成亮;朱偉;吳志鵬;王磊 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢大學(xué) |
主分類號: | B06B1/06 | 分類號: | B06B1/06 |
代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 劉琰 |
地址: | 430072 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 一種 調(diào)諧 超聲 傳感器 陣列 | ||
1.一種可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,該陣列包括:超聲發(fā)射單元(1)和超聲接收單元(2),超聲發(fā)射單元(1)和超聲接收單元(2)均由上至下依次排列設(shè)置有壓電疊層(4)和襯底(3);超聲發(fā)射單元(1)和超聲接收單元(2)于同一片晶體上加工,其壓電疊層(4)厚度一致;超聲發(fā)射單元(1)和超聲接收單元(2)的襯底(3)內(nèi)均設(shè)置有腔體;其中:
超聲發(fā)射單元(1)為具有亥姆霍茲諧振腔(14)的壓電微制造超聲換能器,超聲發(fā)射單元(1)利用壓電疊層(4)激勵亥姆霍茲諧振腔(14)輻射聲波;超聲接收單元(2)為帶質(zhì)量負(fù)載(17)的壓電微制造超聲換能器,其質(zhì)量負(fù)載(17)設(shè)置在超聲接收單元(2)下方的腔體內(nèi);超聲發(fā)射單元(1)的亥姆霍茲諧振腔(14)的諧振頻率低于其壓電疊層(4)的諧振頻率;超聲接收單元(2)在質(zhì)量負(fù)載(17)的調(diào)諧作用下,諧振頻率低于超聲發(fā)射單元(1)的壓電疊層(4)的諧振頻率,但亥姆霍茲諧振腔(14)的諧振頻率小于或等于超聲接收單元(2)的諧振頻率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,超聲發(fā)射單元(1)內(nèi)的腔體為采用空心硅結(jié)構(gòu)圍成的第一腔體(15);貫穿超聲發(fā)射單元(1)的壓電疊層(4)的位置設(shè)置有孔口(16),超聲發(fā)射單元(1)的亥姆霍茲諧振腔(14)由第一腔體(15)和連接第一腔體(15)與外界空氣的孔口(16)組成;超聲發(fā)射單元(1)的壓電疊層(4)推動亥姆霍茲諧振腔(14)內(nèi)空氣的流動,引起亥姆霍茲諧振腔(14)的振動,然后通過孔口(16)發(fā)射聲波。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,超聲接收單元(2)內(nèi)的腔體為采用空心硅結(jié)構(gòu)圍成的第二腔體(18);質(zhì)量負(fù)載(17)設(shè)置在第二腔體(18)內(nèi),且質(zhì)量負(fù)載(17)安裝在壓電疊層(4)的底部;利用質(zhì)量負(fù)載(17)來調(diào)節(jié)諧振頻率,從而使超聲接收單元(2)的諧振頻率與超聲發(fā)射單元(1)的諧振頻率的差值小于一定閾值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,超聲發(fā)射單元(1)和超聲接收單元(2)的壓電疊層(4)采用三明治結(jié)構(gòu)或者雙晶片結(jié)構(gòu);
壓電疊層(4)采用傳統(tǒng)三明治結(jié)構(gòu)時,從上到下依次為上電極、壓電層(11)、下電極(10)、Si晶片(9)、SiO2層(8);
壓電疊層(4)采用雙壓電晶片結(jié)構(gòu)時,從上到下依次為上電極、壓電層(11)、中間電極、壓電層(11)、下電極(10)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,亥姆霍茲諧振腔(14)的孔口(16)的大小、數(shù)量、形狀以及位置由亥姆霍茲諧振腔(14)的共振頻率決定。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,超聲接收單元(2)的質(zhì)量負(fù)載(17)的材料、大小、數(shù)量、形狀以及位置參數(shù)根據(jù)超聲發(fā)射單元(1)的諧振頻率進(jìn)行配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)諧的超聲傳感器陣列,其特征在于,襯底(3)內(nèi)設(shè)置有鍵合層(6),通過鍵合層(6)將襯底(3)分為上部襯底(5)和下部襯底(7)。
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