[發(fā)明專利]等離子體反應(yīng)器及其氣體噴嘴

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911307952.7
• 申請(qǐng)日: 2019-12-18
• 公開（公告）號(hào): CN113000233B
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹思盛;張潔;劉志強(qiáng);左濤濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
• 主分類號(hào): B05B1/00
• 分類號(hào): B05B1/00;B05B1/14;B05B13/02;B05D5/00;B05D1/36;B05D7/22;B05D7/24;C23F4/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 張靜

1.一種用于等離子體反應(yīng)器的氣體噴嘴，所述等離子體反應(yīng)器具有內(nèi)襯，所述內(nèi)襯內(nèi)具有用于氣體傳輸?shù)墓艿溃涮卣髟谟冢鰵怏w噴嘴包括：

插入部，所述插入部的第一端插入固定在所述管道的氣體出口，與所述第一端相對(duì)的第二端用于置于所述管道外部；

出氣部，所述出氣部的一側(cè)表面具有安裝槽，所述安裝槽朝向所述插入部的第二端，且所述插入部的第二端與所述安裝槽底部連接，所述出氣部相對(duì)的另一側(cè)表面具有主氣體噴口；

其中，所述氣體噴嘴內(nèi)具有連通所述插入部第一端與所述主氣體噴口的主氣體噴射通道；所述內(nèi)襯具有用于放置在所述安裝槽內(nèi)的安裝部，所述安裝部位于所述內(nèi)襯具有所述氣體出口的表面，凸出該表面，且環(huán)繞所述氣體出口；所述安裝槽的內(nèi)側(cè)壁與所述安裝部的外側(cè)面相對(duì)密封固定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述安裝槽的側(cè)壁厚度由所述安裝槽的底部至所述安裝槽的頂部逐漸減小，或增大，或均勻不變。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述安裝槽側(cè)壁的外表面具有至少一個(gè)輔助氣體噴口；

所述輔助氣體噴口通過(guò)位于所述出氣部?jī)?nèi)的輔助氣體噴射通道與所述主氣體噴射通道連通。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述安裝槽側(cè)壁的外表面具有多個(gè)所述輔助氣體噴口，所述輔助氣體噴口均勻分布在所述安裝槽側(cè)壁的外表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述輔助氣體噴口位于所述安裝槽側(cè)壁的相同高度位置；

所述輔助氣體噴射通道與所述主氣體噴射通道垂直連通；或，所述輔助氣體噴射通道與所述主氣體噴射通道斜向連通。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述輔助氣體噴射通道的軸線通過(guò)所述主氣體噴射通道的軸線，或所述輔助氣體噴射通道的軸線與所述主氣體噴射通道的軸線不相交。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述輔助氣體噴射通道的直徑由所述主氣體噴射通道至所述輔助氣體噴口逐漸變小，或逐漸增大，或均勻不變。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的氣體噴嘴，其特征在于，所述主氣體噴射通道的直徑由所述插入部至所述出氣部逐漸變小，或均勻不變。

9.一種等離子體反應(yīng)器，其特征在于，包括：

反應(yīng)腔、內(nèi)襯以及氣體噴嘴，所述氣體噴嘴為如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的氣體噴嘴；

所述反應(yīng)腔包括反應(yīng)腔側(cè)壁，所述反應(yīng)腔側(cè)壁圍成的空間為等離子體環(huán)境；所述內(nèi)襯位于所述反應(yīng)腔側(cè)壁上，所述內(nèi)襯內(nèi)具有用于氣體傳輸?shù)墓艿溃凰鰵怏w噴嘴安裝在所述管道的氣體出口中；所述氣體噴嘴具有安裝槽，所述內(nèi)襯具有凸出其表面的安裝部，用于放置在所述安裝槽內(nèi)；所述內(nèi)襯朝向所述等離子體環(huán)境的表面涂覆有第一保護(hù)層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的等離子體反應(yīng)器，其特征在于，所述安裝部的側(cè)壁外表面具有環(huán)繞所述安裝部的凹槽，所述凹槽用于放置第一墊圈，所述第一墊圈用于密封安裝槽側(cè)壁的內(nèi)表面與所述安裝部側(cè)壁的外表面。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的等離子體反應(yīng)器，其特征在于，還包括：

第二墊圈，所述第二墊圈設(shè)置在所述安裝部頂面與所述安裝槽底部之間，以密封所述安裝部頂面與所述安裝槽底部相對(duì)區(qū)域；

和/或，第三墊圈，所述第三墊圈設(shè)置在所述安裝槽側(cè)壁的頂面與所述內(nèi)襯具有所述氣體出口的一側(cè)表面之間，以密封所述安裝槽側(cè)壁的頂面與所述內(nèi)襯具有所述氣體出口的一側(cè)表面相對(duì)區(qū)域。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的等離子體反應(yīng)器，其特征在于，所述安裝部高出所述內(nèi)襯具有所述氣體出口的一側(cè)表面。