[發明專利]一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法

在審

• 申請號: 201911303930.3
• 申請日: 2019-12-17
• 公開（公告）號: CN111500977A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 麥福枝
• 申請（專利權）人: 麥福枝
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/34;A01N59/16;A01P1/00;A01P3/00
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 肖平安

1.一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于包括如下步驟：

(1)預處理：工件進行除油，清洗干凈；

(2)拋光：清洗干凈后的工件在酸性溶液中進行化學拋光；

(3)真空處理：預處理后的工件放上掛架并放入真空爐內，對金屬掛架加載偏壓升高至700V，真空爐內抽真空0.5-1.5x10-3Pa，啟動轉盤，使工件在掛架上轉動，同時掛架在真空爐內轉動；

(4)離子清洗：通入氬氣,使氬氣離子轟擊工件表面，消除工件上的氧化膜。

(5)防菌膜介面層鍍制：調低偏壓，開啟電源調至30-40V，占空比為20％-30％，持續通入氬氣使真空度達到0.3-1Pa，啟動鈦靶，約3-4分鐘，使工件表面形成純鈦膜層；

(6)防菌膜載體層初步鍍制：保持鈦靶并啟動氮氣，使工件表面形成氮化鈦膜層；

(7)防菌膜載體層鍍制完成：保持鈦靶和氮氣，降低氬氣流量，通入乙炔氣體，使工件表面形成碳氮化鈦殺菌膜載體層；

(8)殺菌膜鍍制：啟動銀靶濺射在工件表面形成銀做成的殺菌膜層。

(9)殺菌膜鍍制完成：先關閉鈦靶和氮氣，再關閉乙炔和銀靶，然后關閉所有氣體，加強抽氣5-10分鐘，除去真空爐內殘留的碳離子，將真空爐放空氣至大氣壓，取出工件完成鍍膜。

2.根據權利要求1中所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟6)中隨氮原子個數變化而呈現不同顏色。

3.根據權利要求1中所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟7)中隨碳原子個數變化而呈現不同顏色。

4.根據權利要求1所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟2)中化學拋光試劑為硝酸溶液。

5.根據權利要求1～6任意一項所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述工件包括鋁工件、鋁合金工件、鎂合金工件、不銹鋼及其它金屬工件。

6.根據權利要求1所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟(2)中金屬掛架加載偏壓-200—-300V。

7.根據權利要求1所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟(6)中氬氣的流量為100-250sccm，靶電流為10A，電鍍時間為2-10分鐘。

8.根據權利要求1所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟(7)中氬氣流量降低至40-80sccm，乙炔氣體流量為150-250sccm，乙炔氣體通入時間為1-5分鐘。

9.根據權利要求1所述一種在金屬上生產具有碳氮化鈦載體層殺菌膜的方法，其特征在于：所述步驟(8)中銀靶的靶電流為0.5-1A，銀靶濺射時間為1-4分鐘。