[發(fā)明專利]一種微波退火裝置和微波退火方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911301452.2
• 申請日: 2019-12-17
• 公開（公告）號: CN112981360B
• 公開（公告）日: 2023-01-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫祥;段蛟;陳星建
• 申請（專利權(quán)）人: 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
• 主分類號: C23C14/58
• 分類號: C23C14/58;C23C16/56;C23C18/12
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 楊華

1.一種微波退火方法，其特征在于，應(yīng)用于微波退火裝置，所述微波退火裝置包括退火腔體、與所述退火腔體連通的氣體通路、微波源和波導(dǎo)傳輸系統(tǒng)，所述退火方法包括：

將表面具有非晶相涂層的待退火部件放置在所述退火腔體內(nèi)，所述非晶相涂層中具有缺陷或空位，所述涂層為抗等離子體腐蝕涂層；

通過所述氣體通路向所述退火腔體內(nèi)通入預(yù)設(shè)氣體，所述預(yù)設(shè)氣體包括空氣、氧氣、含氮氣體、含氟氣體中的一種或多種；

控制所述微波源產(chǎn)生預(yù)設(shè)功率的微波，所述預(yù)設(shè)功率在500W~2000W范圍內(nèi)，通過所述波導(dǎo)傳輸系統(tǒng)將所述微波傳輸至所述退火腔體內(nèi)，以便在所述預(yù)設(shè)氣體氛圍下對所述待退火部件進行低溫微波退火，使所述預(yù)設(shè)氣體被活化形成氣體離子，從而使所述氣體離子填入所述非晶相涂層中的缺陷或空位中，進而使所述待退火部件表面的非晶相涂層轉(zhuǎn)變?yōu)榻Y(jié)晶相涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述待退火部件為等離子體刻蝕設(shè)備的零部件；

所述零部件包括噴淋頭、氣體管路、覆蓋環(huán)和內(nèi)襯。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述抗等離子體腐蝕涂層包括YF₃、YOF、YAG、YAP、YAM和YSZ涂層中的一種或多種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述微波退火裝置還包括位于所述退火腔體內(nèi)的承載臺和位于所述承載臺底部的轉(zhuǎn)動部件，所述承載臺用于承載所述待退火部件，進行微波退火時，所述退火方法還包括：

通過所述轉(zhuǎn)動部件帶動所述承載臺以及位于所述承載臺上的所述待退火部件繞所述承載臺的中心旋轉(zhuǎn)，以使所述微波照射到所述涂層的各個區(qū)域。