[發(fā)明專(zhuān)利]一種預(yù)補(bǔ)值的確定方法、裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911296048.0
• 申請(qǐng)日: 2019-12-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110955120B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李兵;趙昕冉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 劉曉菲

1.一種預(yù)補(bǔ)值的確定方法，其特征在于，包括：

提供第一鍵合晶圓，所述第一鍵合晶圓包括第一晶圓和所述第一晶圓的承載晶圓，所述第一鍵合晶圓具有鍵合誤差以使所述第一晶圓在光刻機(jī)臺(tái)上粗對(duì)準(zhǔn)失敗，所述第一晶圓具有多個(gè)第一標(biāo)記點(diǎn)，所述第一標(biāo)記點(diǎn)具有理論坐標(biāo)；

利用第一機(jī)臺(tái)獲取多個(gè)所述第一標(biāo)記點(diǎn)對(duì)應(yīng)的多個(gè)第一差值，所述第一標(biāo)記點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第一差值為將所述第一標(biāo)記點(diǎn)從所述第一機(jī)臺(tái)上的實(shí)際坐標(biāo)所在位置移動(dòng)到所述理論坐標(biāo)所在位置的移動(dòng)數(shù)據(jù)，所述第一標(biāo)記點(diǎn)在所述第一機(jī)臺(tái)上的實(shí)際坐標(biāo)所在位置為所述承載晶圓在所述第一機(jī)臺(tái)的基準(zhǔn)位置時(shí)獲取；

基于所述多個(gè)第一差值，確定所述第一晶圓在所述光刻機(jī)臺(tái)的移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，若所述第一機(jī)臺(tái)和所述光刻機(jī)臺(tái)存在機(jī)臺(tái)差值，則所述基于所述多個(gè)第一差值，確定所述第一晶圓在所述光刻機(jī)臺(tái)的移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值，包括：

基于多個(gè)所述第一差值，以及所述光刻機(jī)臺(tái)和所述第一機(jī)臺(tái)之間的機(jī)臺(tái)差值，確定所述第一晶圓對(duì)應(yīng)的在所述光刻機(jī)臺(tái)的移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述光刻機(jī)臺(tái)和所述第一機(jī)臺(tái)之間的機(jī)臺(tái)差值通過(guò)以下方式得到：

獲取在所述光刻機(jī)臺(tái)上粗對(duì)準(zhǔn)成功的第二鍵合晶圓，所述第二鍵合晶圓包括第二晶圓和所述第二晶圓的承載晶圓，所述第二晶圓具有多個(gè)第二標(biāo)記點(diǎn)，所述第二標(biāo)記點(diǎn)具有理論坐標(biāo)；

獲取所述第二晶圓在所述光刻機(jī)臺(tái)上的第一預(yù)補(bǔ)值，以及所述第二晶圓在所述第一機(jī)臺(tái)上的第二預(yù)補(bǔ)值；所述第一預(yù)補(bǔ)值基于所述第二標(biāo)記點(diǎn)在所述光刻機(jī)臺(tái)上的理論坐標(biāo)和實(shí)際坐標(biāo)確定；所述第二預(yù)補(bǔ)值基于多個(gè)所述第二標(biāo)記點(diǎn)對(duì)應(yīng)的多個(gè)第二差值確定；所述第二標(biāo)記點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第二差值為所述第二標(biāo)記點(diǎn)的理論坐標(biāo)以及在所述第一機(jī)臺(tái)上的實(shí)際坐標(biāo)的差值；

基于所述第一預(yù)補(bǔ)值和所述第二預(yù)補(bǔ)值確定所述光刻機(jī)臺(tái)和所述第一機(jī)臺(tái)的機(jī)臺(tái)差值。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一差值為第一標(biāo)記點(diǎn)的理論坐標(biāo)向?qū)嶋H坐標(biāo)的向量，所述第二差值為所述第二標(biāo)記點(diǎn)的理論坐標(biāo)向?qū)嶋H坐標(biāo)的向量；或，所述第一差值為第一標(biāo)記點(diǎn)的實(shí)際坐標(biāo)與理論坐標(biāo)之間的橫向距離和縱向距離，所述第二差值為所述第二標(biāo)記點(diǎn)的實(shí)際坐標(biāo)和理論坐標(biāo)之間的橫向距離和縱向距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在將所述第一晶圓置于所述光刻機(jī)臺(tái)時(shí)，將所述移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值寫(xiě)入所述光刻機(jī)臺(tái)，以使所述光刻機(jī)臺(tái)基于所述移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值對(duì)所述第一晶圓進(jìn)行移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值包括橫向預(yù)補(bǔ)值、縱向預(yù)補(bǔ)值和旋轉(zhuǎn)預(yù)補(bǔ)值。

7.一種預(yù)補(bǔ)值的確定裝置，其特征在于，包括：

第一晶圓獲取單元，用于獲取第一晶圓，所述第一晶圓與所述第一晶圓的承載晶圓具有鍵合誤差；所述第一晶圓具有多個(gè)第一標(biāo)記點(diǎn)，所述第一標(biāo)記點(diǎn)具有理論坐標(biāo)；

第一差值獲取單元，用于利用第一機(jī)臺(tái)獲取多個(gè)所述第一標(biāo)記點(diǎn)對(duì)應(yīng)的多個(gè)第一差值；所述第一標(biāo)記點(diǎn)對(duì)應(yīng)的第一差值為將所述第一標(biāo)記點(diǎn)從在所述第一機(jī)臺(tái)上的實(shí)際坐標(biāo)所在位置移動(dòng)到所述理論坐標(biāo)所在位置的移動(dòng)數(shù)據(jù)，所述第一標(biāo)記點(diǎn)在所述第一機(jī)臺(tái)上的實(shí)際坐標(biāo)所在位置為所述承載晶圓在所述第一機(jī)臺(tái)的基準(zhǔn)位置時(shí)獲取；

預(yù)補(bǔ)值確定單元，用于基于多個(gè)所述第一差值，確定所述第一晶圓在光刻機(jī)臺(tái)的移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，若所述第一機(jī)臺(tái)和所述光刻機(jī)臺(tái)存在機(jī)臺(tái)差值，所述預(yù)補(bǔ)值確定單元具體用于：

基于多個(gè)所述第一差值，以及所述光刻機(jī)臺(tái)和所述第一機(jī)臺(tái)之間的機(jī)臺(tái)差值，確定所述第一晶圓對(duì)應(yīng)的在所述光刻機(jī)臺(tái)的移動(dòng)預(yù)補(bǔ)值。