[發(fā)明專(zhuān)利]駐極體薄膜、制備方法、用途和空氣凈化裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911295909.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111019233A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 丁伊可;藍(lán)文權(quán);黃祿英;俞劍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 浙江金海環(huán)境技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C08L23/12 | 分類(lèi)號(hào): | C08L23/12;C08K3/22;C08K3/26;C08K3/38;C08K5/524;C08K13/02;C08J5/18;B29D7/01;F24F3/16;F24F13/28 |
| 代理公司: | 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444 | 代理人: | 馮偉 |
| 地址: | 311817 浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 駐極體 薄膜 制備 方法 用途 空氣凈化 裝置 | ||
1.一種駐極體薄膜,其特征在于,主要由以下原料制備而成:
第一聚合物和駐極母粒,其中,所述駐極母粒的重量含量為2~10%;
所述駐極母粒包括以下重量份組分:
無(wú)機(jī)駐極添加劑1~20份、有機(jī)駐極添加劑5~50份和第二聚合物40~90份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的駐極體薄膜,其特征在于,所述駐極母粒的重量含量為3~8%,優(yōu)選為5~6%;
優(yōu)選地,所述駐極母粒包括以下重量份組分:
無(wú)機(jī)駐極添加劑5~10份、有機(jī)駐極添加劑10~40份和第二聚合物50~85份;
優(yōu)選地,所述駐極母粒包括以下重量份組分:
無(wú)機(jī)駐極添加劑6~10份、有機(jī)駐極添加劑15~30份和第二聚合物60~75份。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的駐極體薄膜,其特征在于,所述第一聚合物和所述第二聚合物各自獨(dú)立地包括聚烯烴、聚酯、聚酰胺、氟化聚合物或聚氯乙烯中的至少一種;
優(yōu)選地,所述第一聚合物和所述第二聚合物各自獨(dú)立地包括聚乙烯、聚丙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、環(huán)烯烴共聚物、尼龍或氟化乙烯丙烯共聚物中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的駐極體薄膜,其特征在于,所述無(wú)機(jī)駐極添加劑包括無(wú)機(jī)納米材料;
優(yōu)選地,所述無(wú)機(jī)納米材料的粒徑為20~100nm,優(yōu)選為20~50nm;
優(yōu)選地,所述無(wú)機(jī)納米材料包括納米活性二氧化硅、納米電氣石、納米活性二氧化鈦、納米活性鈦酸鋇或納米活性碳酸鈣中的一種或多種;
優(yōu)選地,所述有機(jī)駐極添加劑包括酯類(lèi)、有機(jī)胺類(lèi)、聚烯烴蠟、棕櫚酸鋁、硬脂酸鹽或取代芳基羧酸鋁鹽中的一種或多種;
優(yōu)選地,所述有機(jī)駐極添加劑包括亞磷酸酯、季戊四醇酯、受阻胺、乙撐雙硬脂酰胺、聚乙烯蠟、棕櫚酸鋁、硬脂酸鹽或取代芳基羧酸鋁鹽中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的駐極體薄膜,其特征在于,所述駐極體薄膜的厚度為0.05~0.30mm,優(yōu)選為0.10~0.20mm;
優(yōu)選地,所述駐極體薄膜至少部分地包括凹凸表面;
優(yōu)選地,所述駐極體薄膜表面具有均勻的凹凸結(jié)構(gòu);
優(yōu)選地,所述駐極體薄膜的結(jié)晶度不低于50%。
6.一種權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的駐極體薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
用包含第一聚合物和駐極母粒混合物制作基礎(chǔ)薄膜;
將基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行駐極處理,得到駐極體薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的駐極體薄膜的制備方法,其特征在于,所述方法包括在將基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行駐極處理之前,對(duì)基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行表面粗糙處理;
優(yōu)選地,將基礎(chǔ)薄膜勻速通過(guò)表面粗糙處理設(shè)備,以增加基礎(chǔ)薄膜的表面粗糙度;
優(yōu)選地,所述表面粗糙處理設(shè)備包括印花輥;
優(yōu)選地,經(jīng)表面粗糙處理后得到的基礎(chǔ)薄膜的表面具有均勻的凹凸結(jié)構(gòu);
優(yōu)選地,所述方法包括在將基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行駐極處理之前,對(duì)基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行重結(jié)晶處理;
優(yōu)選地,所述方法包括在將基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行駐極處理之前,先對(duì)基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行表面粗糙處理,再對(duì)基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行重結(jié)晶處理;
優(yōu)選地,重結(jié)晶處理的溫度為80~200℃;
重結(jié)晶處理的時(shí)間為2~6h,優(yōu)選為3~5h;
優(yōu)選地,經(jīng)重結(jié)晶處理后得到的基礎(chǔ)薄膜的結(jié)晶度不低于50%。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的駐極體薄膜的制備方法,其特征在于,駐極處理的條件包括:駐極電壓為20~150kV;
駐極距離為5~20cm,優(yōu)選為10~15cm;
駐極速度為1~10m/min,優(yōu)選為5~10m/min;
優(yōu)選地,駐極處理過(guò)程中對(duì)基礎(chǔ)薄膜進(jìn)行加熱,加熱的溫度為50~100℃;
優(yōu)選地,所述方法還包括:將無(wú)機(jī)駐極添加劑、有機(jī)駐極添加劑與第二聚合物混合,擠出造粒,得到駐極母粒;
將駐極母粒與第一聚合物混合,擠出,得到基礎(chǔ)薄膜;
優(yōu)選地,擠出造粒的溫度為180~240℃;
優(yōu)選地,擠出溫度為180~240℃。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于浙江金海環(huán)境技術(shù)股份有限公司,未經(jīng)浙江金海環(huán)境技術(shù)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911295909.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線(xiàn)程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





