[發(fā)明專利]一種AlGaN/GaN HEMT的熱管理方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911294276.4 | 申請日: | 2019-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN110942990A | 公開(公告)日: | 2020-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王阿署;曾令艷 | 申請(專利權(quán))人: | 成都大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/335 | 分類號: | H01L21/335;H01L23/373 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 宋輝 |
| 地址: | 610000*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 algan gan hemt 管理 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種AlGaN/GaN HEMT的熱管理方法,在AlGaN/GaN/Si襯底上,使用ICP方法在AlGaN和GaN層上刻蝕深槽用于器件之間的絕緣;使用電子束蒸發(fā)方法淀積歐姆接觸電極;采用PECVD的方法生長鈍化層;刻蝕源極和漏極處的鈍化層;采用PECVD的方法生長金剛石熱分散層;使用SiN作為保護(hù)層,采用ICP方法刻蝕金剛石層以形成源極、漏極及柵極窗口;刻蝕柵極處的鈍化層;電子束蒸發(fā)淀積柵極電極。本發(fā)明能有效的降低器件的溝道溫度,增加器件的漏電流輸出,使其得到更好的散熱效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,具體涉及一種AlGaN/GaN HEMT的熱管理方法。
背景技術(shù)
第三代半導(dǎo)體材料GaN及其合金AlGaN具有較大的自發(fā)和壓電極化電荷。當(dāng)這兩種材料形成異質(zhì)結(jié)時,在AlGaN/GaN界面處會產(chǎn)生較高的極化電荷密度,導(dǎo)致在靠近界面處的GaN溝道中形成高密度的二維電子氣(2DEG)。在此異質(zhì)結(jié)上制備出源極、漏極及柵極即可形成場效應(yīng)晶體管,通常稱為AlGaN/GaN HEMT(高電子遷移率晶體管)。由于該器件的高載流子濃度和GaN材料的寬禁帶寬度,使得AlGaN/GaN HEMT表現(xiàn)出許多優(yōu)良的特性,例如,能輸出較高的功率、能承受較高的擊穿電壓、作為開關(guān)時其開關(guān)速度快和損耗小、能工作在高溫和高輻射等惡劣環(huán)境中等,在軍民領(lǐng)域中均有較大的應(yīng)用潛力。
當(dāng)AlGaN/GaN HEMT工作在高功率的條件下時,其溝道溫度也會相應(yīng)地升高,從而使載流子的遷移率降低,導(dǎo)致器件的漏電流減小,即自加熱效應(yīng)。所以,需要對器件使用恰當(dāng)?shù)臒峁芾矸椒ㄒ詼p小其溝道溫度,提高漏電流的輸出。目前已報道采用的熱管理方法如下:
1)通過刻蝕移除器件的襯底,再原子級的鍵合高熱導(dǎo)的熱沉,主要使用的熱沉材料有金剛石和AlN。但是這種方法存在制作工藝復(fù)雜、成本高、穩(wěn)定性差的問題;并且,新焊接的熱沉和溝道間隔著約2微米的GaN緩沖層,距離比較遠(yuǎn),影響散熱的效果;同時,在緩沖層GaN和新焊接的熱沉之間存在有高熱阻的界面層,這也影響了散熱的效果。
2)在襯底上刻蝕出一些洞穴,深度約為襯底的厚度,之后再在這些洞穴里淀積高熱導(dǎo)的金剛石薄膜充當(dāng)熱沉的作用。對于這種方法,由于所要淀積的金剛石比較多,所以生長速度比較緩慢,影響其實用性。另一方面,高熱導(dǎo)的金剛石距離溝道也間隔著GaN的緩沖層,影響其散熱的效果。
3)在器件表面上直接鈍化AlN或者是鍵合AlN作為熱沉,該方法中不足夠高的AlN熱導(dǎo)(約320W/mK)一定程度上限制了其熱管理的效果。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有的器件的溝道溫度較高,漏電流的輸出小,導(dǎo)致散熱效率較低,目的在于提供一種AlGaN/GaN HEMT的熱管理方法,解決AlGaN/GaN HEMT器件的散熱問題。
本發(fā)明通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):
一種AlGaN/GaN HEMT的熱管理方法,包括以下步驟:
(1)在AlGaN/GaN/Si襯底上,使用ICP方法在AlGaN和GaN層上刻蝕深槽用于器件之間的絕緣;
(2)使用電子束蒸發(fā)方法淀積歐姆接觸電極;
(3)采用PECVD的方法生長鈍化層;
(4)刻蝕源極和漏極處的鈍化層;
(5)采用PECVD的方法生長金剛石熱分散層;
(6)使用SiN作為保護(hù)層,采用ICP方法刻蝕金剛石層以形成源極、漏極及柵極窗口;
(7)刻蝕柵極處的鈍化層;
(8)電子束蒸發(fā)淀積柵極電極。
具體的,歐姆接觸為Ti/Al/Ni/Au多層結(jié)構(gòu);鈍化層為SiO2或SiN材料。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





