[發(fā)明專利]一種用于電子加工的節(jié)能環(huán)保廢水處理系統(tǒng)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911291222.2
• 申請(qǐng)日: 2019-12-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110950484A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊曉微
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海攬禾電子有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/12
• 分類號(hào): C02F9/12;C02F101/30
• 代理公司: 北京中索知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11640
• 代理人: 趙登陽(yáng)

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于電子加工的節(jié)能環(huán)保廢水處理系統(tǒng)，包括廢水池、均質(zhì)池、芬頓反應(yīng)槽、氧化槽、沉淀池、污泥濃縮池、干化場(chǎng)、填埋場(chǎng)、過(guò)濾裝置、RO處理裝置、EDI機(jī)組、UV殺菌裝置和凈水池，所述廢水池的出水端和均質(zhì)池的進(jìn)水端相連通，所述均質(zhì)池的出水端和芬頓反應(yīng)槽的進(jìn)水端相連通，所述芬頓反應(yīng)槽的出水端和氧化槽的進(jìn)水端相連通，所述加藥槽的出水端和芬頓反應(yīng)槽的進(jìn)水端相連通。本發(fā)明本發(fā)明的有益效果是：操作簡(jiǎn)單，能耗低，可流水線操作，適合大規(guī)模的使用，適合電子廠的使用，處理后的水能夠達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)；系統(tǒng)設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，能夠滿足電子廢水的處理要求，并且造價(jià)低。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及止回閥安裝技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于電子加工的節(jié)能環(huán)保廢水處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)

我國(guó)是世界電子行業(yè)制造基地，電子產(chǎn)業(yè)企業(yè)規(guī)模大，數(shù)量多，電子產(chǎn)品類型多，在電子產(chǎn)品生產(chǎn)流程中，會(huì)產(chǎn)生大量的廢水，在廢水中含有大量的金屬離子，如銅離子，鐵離子，鎳離子，廢水直接排入江河中，會(huì)造成水體的污染，并且在金屬離子中，含有有毒物質(zhì)，排入水中，會(huì)嚴(yán)重影響人們飲用水的質(zhì)量，危害人們的健康；

很多電子廠產(chǎn)生的廢水，主要污染物為有機(jī)物、SS、重金屬鎳、銅等。一般重金屬?gòu)U水的處理方法主要有中和沉淀法、化學(xué)沉淀法、氧化還原法、氣浮法、電解法、生化法等。中和沉淀處理過(guò)程簡(jiǎn)單，中和劑來(lái)源廣泛，但處理效果較差，沉渣量大；氧化還原法需消耗大量的酸，產(chǎn)生的廢渣和污泥量也大；氣浮法處理重金屬殘留低，操作速度快，占地少，但浮渣和凈化水回用需進(jìn)一步解決，運(yùn)行費(fèi)用稍高；電解法設(shè)備簡(jiǎn)單、占地少，且可以回收金屬，但是耗電量太大，運(yùn)行成本較高，出水水質(zhì)差，處理量小。

發(fā)明內(nèi)容

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

一種用于電子加工的節(jié)能環(huán)保廢水處理系統(tǒng)，包括廢水池、均質(zhì)池、芬頓反應(yīng)槽、氧化槽、沉淀池、污泥濃縮池、干化場(chǎng)、填埋場(chǎng)、過(guò)濾裝置、RO處理裝置、EDI機(jī)組、UV殺菌裝置和凈水池；所述廢水池的出水端和均質(zhì)池的進(jìn)水端相連通，所述均質(zhì)池的出水端和芬頓反應(yīng)槽的進(jìn)水端相連通，所述芬頓反應(yīng)槽的出水端和氧化槽的進(jìn)水端相連通，所述加藥槽的出水端和芬頓反應(yīng)槽的進(jìn)水端相連通，所述氧化槽出水端和沉淀池的進(jìn)水端相連通，所述沉淀池的出水端和過(guò)濾裝置的進(jìn)水端相連通，所述沉淀池的出泥端和污泥濃縮池的進(jìn)泥端相連通，所述污泥濃縮池的出泥端和干化場(chǎng)的進(jìn)泥端相連通，所述過(guò)濾裝置的出水端和RO處理裝置的進(jìn)水端相連通，所述RO處理裝置的出水端和EDI機(jī)組的進(jìn)水端相連通，所述EDI機(jī)組的出水端和UV殺菌裝置的進(jìn)水端相連通，所述UV殺菌裝置的出水端和凈水池的進(jìn)水端相連通。

優(yōu)選的，所述沉淀池和過(guò)濾裝置之間的管道內(nèi)安裝有紫外線殺菌設(shè)備。

優(yōu)選的，所述過(guò)濾裝置由DF膜處理裝置和活性炭過(guò)濾裝置組成。

優(yōu)選的，所述活性炭過(guò)濾裝置內(nèi)有活性炭過(guò)濾器，活性炭過(guò)濾器包括框架，所述框架內(nèi)設(shè)置有活性炭，所述活性炭的粒徑自上而下粒徑逐級(jí)分配，由粗變細(xì)。

優(yōu)選的，所述RO處理裝置包括一級(jí)RO機(jī)組，一級(jí)RO水箱，二級(jí)RO機(jī)組，二級(jí)RO水箱。

優(yōu)選的，所述污泥濃縮池的進(jìn)泥端設(shè)有吸泥泵。

與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：

1、操作簡(jiǎn)單，能耗低，可流水線操作，適合大規(guī)模的使用，適合電子廠的使用，處理后的水能夠達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。

2、系統(tǒng)設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，能夠滿足電子廢水的處理要求，并且造價(jià)低。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明提出的一種用于電子加工的節(jié)能環(huán)保廢水處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式