[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911282711.1
• 申請日: 2019-12-13
• 公開（公告）號: CN111081766A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡小波
• 申請（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L29/417
• 分類號: H01L29/417;H01L29/423;H01L29/49;H01L21/28
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 遠(yuǎn)明

本申請公開了一種顯示面板，其包括襯底基板和設(shè)置于所述襯底基板上的陣列層；所述陣列層包括位于所述襯底基板上方的柵極層；所述柵極層包括第一導(dǎo)電金屬層以及依次層疊設(shè)置于所述第一導(dǎo)電金屬層上的第一鉬合金層和第一氧化鉬合金層。利用設(shè)置于所述第一導(dǎo)電金屬層上方的第一氧化鉬合金層以降低柵極層的表面的光反射率，利用設(shè)置于所述第二導(dǎo)電金屬層上方的第二氧化鉬合金層降低源極和漏極的表面的光反射率，從而防止產(chǎn)品的光反射率偏高影響視覺效果，同時通過第一鉬合金層防止第一導(dǎo)電金屬層與第一氧化鉬合金層之間發(fā)生電偶腐蝕，通過第二鉬合金層防止第二導(dǎo)電金屬層與第二氧化鉬合金層之間發(fā)生電偶腐蝕。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法。

背景技術(shù)

現(xiàn)在大尺寸顯示面板產(chǎn)品中的導(dǎo)電層(如柵極)一般采用Cu等金屬制成，可見光在Cu膜表面的反射率達(dá)到90％，而Cu膜在上方?jīng)]有遮擋，可見光到達(dá)Cu膜表面時會發(fā)生反射，從而導(dǎo)致產(chǎn)品的反射率偏高，影響視覺效果。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實施例提供一種顯示面板，以解決現(xiàn)有的顯示面板中，導(dǎo)電層一般采用Cu等金屬制成，而Cu膜在上方?jīng)]有遮擋，可見光到達(dá)Cu膜表面時會發(fā)生反射，從而導(dǎo)致產(chǎn)品的反射率偏高，影響視覺效果的技術(shù)問題。

一種顯示面板，其包括襯底基板和設(shè)置于所述襯底基板上的陣列層；所述陣列層包括位于所述襯底基板上方的柵極層；

其中，所述柵極層包括第一導(dǎo)電金屬層以及依次層疊設(shè)置于所述第一導(dǎo)電金屬層上的第一鉬合金層和第一氧化鉬合金層。

在一些實施例中，所述第一鉬合金層覆蓋所述第一導(dǎo)電金屬層，所述第一氧化鉬合金層覆蓋所述第一鉬合金層。

在一些實施例中，所述第一氧化鉬合金層的厚度小于或等于所述第一鉬合金層的厚度。

在一些實施例中，所述柵極層還包括設(shè)置于所述第一導(dǎo)電金屬層與所述襯底基板之間的第一緩沖層，所述第一緩沖層位于所述襯底基板上，所述第一導(dǎo)電金屬層設(shè)置于所述第一緩沖層上。

在一些實施例中，所述陣列層還包括：

覆蓋所述柵極層的柵極絕緣層；

設(shè)置于所述柵極絕緣層上的有源層以及與所述有源層電連接的源漏金屬層；

覆蓋所述有源層和源漏金屬層的鈍化層；

設(shè)置于所述鈍化層上的像素電極層；

其中，所述源漏金屬層包括位于所述鈍化層上的第二緩沖層、位于所述第二緩沖層上的第二導(dǎo)電金屬層以及依次層疊設(shè)置于所述第二導(dǎo)電金屬層上的第二鉬合金層和第二氧化鉬合金層。

在一些實施例中，所述像素電極層通過一貫穿所述鈍化層和所述第二氧化鉬合金層的通孔與所述第二鉬合金層觸接。

在一些實施例中，所述第一鉬合金層和第二鉬合金層的制備材料均包括鈦、鎳、鉭、鎢和鈮中的至少一種。

本發(fā)明還提供一種顯示面板的制備方法，包括以下步驟：

S10、在襯底基板上形成陣列層；

其中，所述步驟S10包括：

S11、在所述襯底基板上方形成第一導(dǎo)電金屬層；

S12、在所述第一導(dǎo)電金屬層上形成依次層疊設(shè)置的第一鉬合金層和第一氧化鉬合金層。

在一些實施例中，所述步驟S12包括：

S121、使用鉬合金在所述第一導(dǎo)電金屬層上形成第一鉬合金膜層；

S122、對第一鉬合金膜層的表面進(jìn)行氧化處理，以形成預(yù)定厚度的第一氧化鉬合金層。