[發明專利]垂直腔面發射激光器的結構及制造方法有效
| 申請號: | 201911268085.0 | 申請日: | 2019-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN111029901B | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 沈志強 | 申請(專利權)人: | 深圳博升光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/183 | 分類號: | H01S5/183;H01S5/187 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區桃源街道福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 垂直 發射 激光器 結構 制造 方法 | ||
1.一種垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,包括:
分別形成第一反射器層、氧化層、發光層及第二反射器層,所述發光層具有至少一個發光區域;
于各所述發光區域的正上方形成圓形電隔離保護區,對所述電隔離保護區外的區域進行質子或離子隔離注入以形成電隔離區域,所述電隔離區域只覆蓋所述發光區域外側的氧化層;
形成多個所述發光區域,多個所述發光區域矩陣排布或隨機排布。
2.根據權利要求1所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,在形成所述電隔離區域之前,在所述第二反射器層上形成連接電極。
3.根據權利要求2所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于;
在形成所述連接電極后,對所述氧化層進行氧化處理,以在所述氧化層形成氧化區域和第二未氧化區域,所述氧化區域環繞所述第二未氧化區域,所述第二未氧化區域用于界定激光出射窗。
4.根據權利要求3所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,形成氧化溝槽,所述氧化溝槽至少自所述第二反射器層延伸至所述第一反射器層;
在所述氧化溝槽內通過濕法氧化工藝,使所述氧化層自所述氧化溝槽向內形成環繞所述第二未氧化區域的所述氧化區域。
5.根據權利要求4所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,所述圓形電隔離保護區的邊界,介于所述氧化溝槽的邊界與所述激光出射窗的邊界之間。
6.根據權利要求1-5任一項所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,所述發光層和所述氧化層兩者中的一個與所述第一反射器層連接,另外一個與所述第二反射器層連接。
7.根據權利要求1-5任一項所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,所述氧化層設置為兩層,所述發光層位于兩層所述氧化層之間,其中一層所述氧化層與所述第一反射器層連接,另外一層所述氧化層與所述第二反射器層連接。
8.根據權利要求1-5任一項所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,所述第一反射器層和所述第二反射器層中兩者中的一個為N型反射器層,另外一個為P型反射器層。
9.根據權利要求1-5任一項所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,所述第一反射器層及所述第二反射器層為布拉格反射器層和高對比度光柵層中的至少一種。
10.根據權利要求1-5任一項所述垂直腔面發射激光器的制造方法,其特征在于,在質子或離子注入后,進行退火處理,使質子或離子注入路徑上,位于電隔離區域之上的各層恢復導電性。
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