[發明專利]一種基于規則的曝光補償方法

有效

• 申請號: 201911263816.2
• 申請日: 2019-12-11
• 公開（公告）號: CN111104773B
• 公開（公告）日: 2022-05-24
• 發明（設計）人: 劉東;楊祖聲;劉偉平;陸濤濤
• 申請（專利權）人: 北京華大九天科技股份有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392;G03F1/70
• 代理公司: 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467
• 代理人: 王金雙

1.一種基于規則的曝光補償方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）確定需要曝光補償的版圖設計單元；

2）確定版圖設計單元中的工藝層；

3）設定關鍵尺寸規則，設定關鍵尺寸，包括最小間距和最小寬度，其中，最小間距指的是輪廓圖形間的最小距離；最小寬度指的是輪廓圖形的最小寬度；

4）設置補償圖形的bias值，并創建補償圖形；

5）對補償圖形進行倒角處理；

6）將倒角處理后的補償圖形與原圖形輪廓合并；

其中所述步驟3）進一步包括以下步驟：

判斷版圖中的圖形與相鄰圖形輪廓之間的距離與最小間距的關系，如果版圖中的圖形與相鄰圖形輪廓之間的距離大于最小間距時，則需判斷版圖中的圖形的輪廓上的寬度是否大于最小寬度，如果版圖中的圖形的輪廓上的寬度小于最小寬度，則需補償這部分輪廓；如果版圖中的圖形的輪廓上的寬度大于或等于最小寬度，則不進行補償操作；

如果版圖中的圖形與相鄰圖形輪廓之間的距離小于或等于最小間距時，則無需補償。

2.根據權利要求1所述的基于規則的曝光補償方法，其特征在于，所述步驟1）進一步包括，通過指定需要曝光補償的設計單元名稱來確定需要曝光補償的版圖設計單元；其中，所述設計單元名稱包括庫名、單元名和視圖名。

3.根據權利要求1所述的基于規則的曝光補償方法，其特征在于，所述步驟4）中設置補償的bias值，用于指定補償后相對原圖形增加的寬度。

4.根據權利要求3所述的基于規則的曝光補償方法，其特征在于，所述步驟4）進一步包括，以需要補償的輪廓為中線，創建一個寬度為2×bias的路徑圖形，其中所述路徑圖形與原圖形使用同一個工藝層。

5.根據權利要求1所述的基于規則的曝光補償方法，其特征在于，在所述步驟5），包括，設置倒角參數，其為角度值，并在補償圖形的端部進行倒角處理。

6.一種基于規則進行曝光補償的裝置，其特征在于，包括存儲器和處理器，所述存儲器上儲存有在所述處理器上運行的程序，所述處理器運行所述程序時執行權利要求1-5任一項所述的基于規則的曝光補償方法的步驟。

7.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機指令，其特征在于，所述計算機指令運行時執行權利要求1-5任一項所述的基于規則的曝光補償方法的步驟。