[發明專利]一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架

有效

• 申請號: 201911253087.2
• 申請日: 2019-12-09
• 公開（公告）號: CN110894823B
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 丁永杰;李鴻;范昊天;魏立秋;于達仁
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: F03H1/00
• 分類號: F03H1/00
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211
• 代理人: 王海婷

1.一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：包括導磁底板和均勻設置在導磁底板上的多個導磁套筒，所述的導磁底板和多個導磁套筒一體成型設置，每一導磁套筒內安置霍爾推力器簇的一個推力器單元，每一導磁套筒完全遮擋其內的推力器單元，各導磁套筒間均設有間隙，多個導磁套筒圍合的區域中心為導磁底板的中心，在多個導磁套筒圍合的區域中心布置陰極，所述陰極為霍爾推力器簇的各推力器單元的共享陰極。

2.根據權利要求1所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：各推力器單元及共享陰極均采用螺栓與導磁底板相連接，導磁底板底部相應位置開有通孔，相應的電氣供應管路可直接穿過導磁底板通孔分別與推力器單元及陰極相連。

3.根據權利要求1所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：所述導磁底板和多個導磁套筒的材質均為純鐵。

4.根據權利要求1所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：所有導磁套筒均沿導磁底板的外圍設置，多個導磁套筒圍合區域大小與陰極尺寸相匹配。

5.根據權利要求1所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：導磁套筒的形狀與推力器單元磁路外包絡結構相對應，導磁套筒與相應的推力器單元間的間隙尺寸在周向上相一致，且該間隙尺寸需大于推力器單元磁路外包絡尺寸的8％。

6.根據權利要求5所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：導磁套筒的高度需高于推力器單元磁極端面，且高度差大于推力器磁路外包絡尺寸的18％且小于推力器磁路外包絡尺寸的40％。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：所述導磁底板為圓形底板，在導磁底板上圓周陣列多個導磁套筒。

8.根據權利要求1-6中任一項所述的一種應用于霍爾推力器簇的抗磁干擾支架，其特征在于：所述導磁底板為正方形底板，在導磁底板上矩形陣列四個導磁套筒。