[發(fā)明專利]真空接頭及真空系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911253083.4 | 申請日: | 2019-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN113028173A | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 廖民安;李青;陳發(fā)偉;張旭;李慶文 | 申請(專利權(quán))人: | 東旭(錦州)精密光電科技有限公司;東旭光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | F16L29/02 | 分類號: | F16L29/02;F16K51/02 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人: | 林治辰;邱成杰 |
| 地址: | 121000 遼寧省錦州市濱海新區(qū)*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 接頭 系統(tǒng) | ||
1.一種真空接頭,其特征在于,所述真空接頭包括接頭座(100)、接頭體(200)以及移動塊(300);
所述接頭座(100)內(nèi)部具有腔室,所述接頭座(100)上開設有與所述腔室連通的第一通孔(101);
所述接頭體(200)的一端與外部的真空源連接,另一端伸入所述腔室以使所述腔室與所述真空源連通;
所述移動塊(300)沿第一方向可移動的設置在所述腔室中;其中,所述移動塊(300)配置為能夠沿所述第一方向在遮擋位置和導通位置之間移動,在所述遮擋位置,所述移動塊(300)能夠斷開所述第一通孔(101)與所述腔室的連通,在所述導通位置,所述移動塊(300)允許所述第一通孔(101)與所述腔室連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空接頭,其特征在于,所述移動塊(300)設有第一導向部,所述腔室設有與所述第一導向部配合的第二導向部以引導所述移動塊(300)從所述導通位置移動至所述遮擋位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空接頭,其特征在于,所述第一導向部包括第一錐形面(301),所述第二導向部包括與所述第一錐面(301)配合的第二錐形面(102)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空接頭,其特征在于,所述真空接頭包括能夠在所述第一錐形面(301)和所述第二錐形面(102)之間實現(xiàn)密封的第一密封圈(400)和第二密封圈(500),所述第一密封圈(400)和所述第二密封圈(500)之間沿所述第一方向具有第一間距,所述第一間距配置為位于所述遮擋位置的所述移動塊(300)能夠使所述第一通孔(101)位于所述第一密封圈(400)和所述第二密封圈(500)之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的真空接頭,其特征在于,所述接頭體(200)設置為能夠沿所述第一方向移動以驅(qū)動所述移動塊(300)在所述遮擋位置和所述導通位置之間移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空接頭,其特征在于,所述真空接頭包括驅(qū)動件(800),所述驅(qū)動件(800)具有能夠沿所述第一方向移動的活塞桿(801),所述接頭體(200)安裝在所述活塞桿(801)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空接頭,其特征在于,所述真空接頭包括設置在所述腔室中的彈性件(700),所述彈性件(700)的一端連接在所述腔室內(nèi)壁上,另一端連接在所述移動塊(300)上以向所述移動塊(300)施加朝向所述遮擋位置的推力;
所述驅(qū)動件(800)設置為能夠驅(qū)動所述接頭體(200)克服所述推力推動所述移動塊(300)朝向所述導通位置移動。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空接頭,其特征在于,所述接頭體(200)具有第三錐形面(203),所述腔室具有與所述第三錐形面(203)配合的第四錐形面(103)以引導所述接頭體(200)朝所述導通位置推動所述移動塊(300)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空接頭,其特征在于,所述接頭體(200)包括真空氣道(201)以及第二通孔(202);所述第二通孔(202)開設在所述接頭體(200)伸入所述腔室中的一端;所述真空氣道(201)的一端與所述真空源連通,另一端與所述第二通孔(202)連通;
所述真空接頭包括第三密封圈(600),所述第三密封圈(600)設置在所述第三錐形面(203)上或所述第四錐形面(103)上以在所述第二通孔(202)和外界之間形成密封。
10.一種真空系統(tǒng),其特征在于,所述真空系統(tǒng)包括真空箱體(900)和權(quán)利要求1-9中任意一項所述的真空接頭,所述真空接頭的所述第一通孔(101)位于所述真空箱體(900)內(nèi)。
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