[發明專利]用于改善表面光潔度的涂層

在審

• 申請號: 201911240410.2
• 申請日: 2019-12-06
• 公開（公告）號: CN111322118A
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 馬修·特洛伊·哈夫納;約翰·麥康內爾·德爾沃;詹森·羅伯特·帕羅利尼;拉金德拉·庫馬爾·博爾迪亞;李泉
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: F01D5/28
• 分類號: F01D5/28;F01D25/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 初明明;林毅斌

1.一種涂層，所述涂層包含：

S-A-Y材料組合物，所述S-A-Y材料組合物包括：

至少34.9質量％的二氧化硅；

至少9.1質量％的氧化鋁；和

至少16.1質量％的氧化釔。

2.根據權利要求1所述的涂層，還包含：

至少3質量％的氧化硼。

3.根據權利要求1所述的涂層，所述S-A-Y材料組合物包括：

至少41.7質量％的二氧化硅；

至少11.1質量％的氧化鋁；和

至少19.6質量％的氧化釔；

并且還包括至少5質量％的氧化硼。

4.根據權利要求1所述的涂層，所述S-A-Y材料組合物包括：

49質量％至59質量％的二氧化硅；

13質量％至23質量％的氧化鋁；和

23質量％至33質量％的氧化釔。

5.根據前述權利要求中任一項所述的涂層，還包含：

B-A-S材料組合物，其中所述B-A-S材料組合物包括：

15質量％至25質量％的氧化鋇；

8質量％至18質量％的氧化鋁；和

62質量％至72質量％的二氧化硅；

其中所述B-A-S材料組合物占所述涂層的總組合物的約10％至約30％。

6.一種涂層，所述涂層包含：

B-A-S材料組合物，所述B-A-S材料組合物包括：

15質量％至25質量％的氧化鋇；

8質量％至18質量％的氧化鋁；和

62質量％至72質量％的二氧化硅。

7.根據權利要求6所述的涂層，還包含至少2質量％的碳化硅。

8.一種涂層，所述涂層包含：

S-A-Y材料組合物，所述S-A-Y材料組合物包括：

49質量％至59質量％的二氧化硅；

13質量％至23質量％的氧化鋁；和

23質量％至33質量％的氧化釔；以及

B-A-S材料組合物，所述B-A-S材料組合物包括：

15質量％至25質量％的氧化鋇；

8質量％至18質量％的氧化鋁；和

62質量％至72質量％的二氧化硅；

其中所述S-A-Y材料組合物占所述涂層的總組合物的約70質量％至約90質量％，并且

其中所述B-A-S材料組合物占所述涂層的所述總組合物的約10質量％至約30質量％。

9.根據權利要求8所述的涂層，其中涂層表面的粗糙度平均值介于約10Ra和約150Ra之間。

10.根據權利要求8所述的涂層，還具有等于或小于約8.0(x 10^-6/(℃))的熱膨脹系數(CTE)。