[發明專利]一種基于莫爾條紋的干涉相移靈敏度增強方法有效
| 申請號: | 201911237500.6 | 申請日: | 2019-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN111006582B | 公開(公告)日: | 2021-09-07 |
| 發明(設計)人: | 方亮;況銀麗;程欣;彭翔;張輝;劉恩海 | 申請(專利權)人: | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號: | G01B9/02 | 分類號: | G01B9/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610209 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 莫爾 條紋 干涉 相移 靈敏度 增強 方法 | ||
1.一種基于莫爾條紋的干涉相移靈敏度增強方法,其特征在于:該方法包括:空間調制型干涉儀形成的干涉條紋光場(1)經偏振片(2)后入射至普通分光棱鏡(3),其中一束光被普通分光棱鏡(3)反射后,經第一平面反射鏡(4)反射后沿原光路返回,再次經過普通分光棱鏡(3)后,透過偏振分光棱鏡(7)入射至陣列探測器(8)上,形成一組干涉條紋分布;另一束光從普通分光棱鏡(3)透射后,分別經第二平面反射鏡(5)和第三平面反射鏡(6)反射后入射至偏振分光棱鏡(7),經偏振分光棱鏡(7)反射后入射至陣列探測器(8)上,形成另一組條紋取向相反的干涉條紋分布,調節第三平面反射鏡(6),使陣列探測器(8)上的兩組干涉條紋之間存在夾角,形成莫爾條紋,當干涉條紋發生相移時,莫爾條紋將發生明顯的位移;
所述空間調制型干涉儀輸出干涉條紋光場(1)為空間分布的一維周期條紋;
所述偏振片(2),用于使干涉條紋光場(1)起偏,且偏振方向與豎直方向成45°角,保證p偏振分量與s偏振分量光強相等;
所述普通分光棱鏡(3),用于對干涉條紋光場進行分光,分光比為1:1,無偏振選擇特性;
所述第二平面反射鏡(5)和第三平面反射鏡(6)組合后,用于對普通分光棱鏡(3)透射光路的干涉條紋光場進行反射,并使這一組干涉條紋光場的取向發生倒轉;
所述偏振分光棱鏡(7),有偏振選擇特性,p偏振與s偏振的分光比例為1:1,用于對第一平面反射鏡(4)和第三平面反射鏡(6)反射的兩組干涉條紋光場進行偏振選擇,使陣列探測器(8)上接收的兩組干涉條紋的偏振態相互垂直,相互之間不發生干涉,而是形成莫爾條紋;
沿光軸旋轉第三平面反射鏡(6)可以微調干涉條紋光場的取向,使探測器上兩組干涉條紋的取向夾角在160°~170°范圍;
當兩組干涉條紋取向夾角為θ,干涉條紋的移動量為a時,則形成莫爾條紋的移動量為
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