[發(fā)明專利]真空注液杯組件及真空注液裝置

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• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN112928403A
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫先導智能裝備股份有限公司
• 主分類號: H01M50/609
• 分類號: H01M50/609;H01M50/627;H01M50/664
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種真空注液杯組件，包括：支架；注液基臺，固定設置在所述支架上，所述注液基臺為柱體且內(nèi)部設置有至少一組貫通上下端面的容納腔；注液底板，固定設置在所述支架上，所述注液底板上設置有至少一組注液孔，且每組所述注液孔與所述容納腔對應設置；注液針，設置在所述注液基臺的所述容納腔內(nèi)，且與所述容納腔側(cè)壁密封滑動配合；其中，所述注液針上設置有用于容納電解液的注液通道，所述注液通道的出口設置在所述注液針的側(cè)壁上，且位于所述注液基臺的容納腔處，僅通過注液針在注液孔內(nèi)的插、拔即可實現(xiàn)實現(xiàn)密封及非密封的兩種工作狀態(tài)，可方便的將電解液注入已抽真空的電池殼體內(nèi)，工作效率大大提高，且操作簡便、快捷。

技術(shù)領域

本發(fā)明涉及電池制造設備技術(shù)領域，具體涉及一種真空注液杯組件及包含該真空注液杯組件的真空注液裝置。

背景技術(shù)

注液機是將電解液注入電池殼體內(nèi)部并完全浸潤電池內(nèi)部的設備，在向電池殼體內(nèi)部注入電解液時，常規(guī)的注液速度較慢，工作效率較低，因此現(xiàn)有技術(shù)大多采用真空注液的方式，通過壓力差將電解液壓入電池殼體內(nèi)。但是現(xiàn)有的真空注液裝置通常為半真空狀態(tài)環(huán)境下進行，先將電解液注入電池上方的持液杯中，再將其放入壓力腔，通過正負壓循環(huán)來實現(xiàn)浸潤的方式，多次抽真空-常壓的循環(huán)工作導致工作效率較低，且電解液無法完全浸潤電池，因此急需尋找一種能夠?qū)崿F(xiàn)真空注液的真空注液杯組件及包含該真空注液杯組件的真空注液裝置。

有鑒于上述現(xiàn)有注液機存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設計制造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設真空注液杯組件及包含該真空注液杯組件的真空注液裝置，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設計，并經(jīng)反復試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于，克服現(xiàn)有的注液機存在的缺陷，而提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)真空環(huán)境下進行注液的真空注液杯組件及包含該真空注液杯組件的真空注液裝置，從而更加適于實用，且具有產(chǎn)業(yè)上的利用價值。

本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。

一種真空注液杯組件，包括：

支架；

注液基臺，固定設置在所述支架上，所述注液基臺為柱體且內(nèi)部設置有至少一組貫通上下端面的容納腔；

注液底板，固定設置在所述支架上，所述注液底板上設置有至少一組注液孔，且每組所述注液孔與所述容納腔對應設置；

注液針，設置在所述注液基臺的所述容納腔內(nèi)，且與所述容納腔側(cè)壁密封滑動配合；

其中，所述注液針上設置有用于容納電解液的注液通道，所述注液通道的出口設置在所述注液針的側(cè)壁上，且位于所述注液基臺的容納腔處。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，還包括第一動力組件，與所述注液針連接，用于驅(qū)動所述注液針在所述注液基臺內(nèi)的運動，使得所述注液針具有插入并堵塞所述注液孔的第一狀態(tài)及未堵塞所述注液孔的第二狀態(tài)。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述第一動力組件包括：

側(cè)板，設置有兩組，分別對稱的設置在所述注液基臺的兩側(cè)，所述側(cè)板與所述注液針之間通過滑軌-滑塊組件連接，且所述滑軌-滑塊組件傾斜設置；

連接板，與兩組所述側(cè)板固定連接；

第一驅(qū)動件，與所述連接板連接，用于驅(qū)動所述連接板及與所述連接板固定連接的兩組所述側(cè)板的移動。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述第一動力組件還包括導向組件，用于給所述側(cè)板的移動導向。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述導向組件包括設置在所述注液底板上的滑軌及設置在所述側(cè)板底部的滑塊。