[發明專利]一種陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線

有效

• 申請號: 201911231429.0
• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN110854547B
• 公開（公告）日: 2021-09-24
• 發明（設計）人: 程鈺間;趙凡;姚仕森;樊勇;張波;林先其;張永鴻;趙明華
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: H01Q21/00
• 分類號: H01Q21/00;H01Q15/16;H01Q19/10
• 代理公司: 電子科技大學專利中心 51203
• 代理人: 甘茂

1.一種陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線，由反射面與陣列饋源構成，其特征在于，所述陣列饋源包括第一子陣饋源與第二子陣饋源，其中，第一子陣饋源位于反射面與反射面的焦平面之間、且平行于反射面的焦平面設置，所述反射面的焦點到第一子陣饋源的投影與第一子陣饋源的中心點重合；所述第二子陣饋源連接于第一子陣饋源，與第一子陣饋源所在平面形成夾角θ₁、且第二子陣饋源與第一子陣饋源之間夾角為180°-θ₁；所述陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線工作于毫米波頻段，所述夾角θ₁的取值范圍為：0°＜θ₁≤8°。

2.按權利要求1所述陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線，其特征在于，所述陣列饋源還包括第三子陣饋源，所述第三子陣饋源連接于第一子陣饋源、且與第二子陣饋源分別位于第一子陣饋源的兩側；所述第三子陣饋源與第一子陣饋源所在平面形成夾角θ₂，且第三子陣饋源與第一子陣饋源之間夾角為180°-θ₂。

3.按權利要求2所述陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線，其特征在于，所述陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線中，0°＜θ₂≤8°。

4.按權利要求1或2所述陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線，其特征在于，所述陣列饋源的離焦距離為d：0＜d≤6λ，λ為自由空間傳播時的工作波長。

5.按權利要求2所述陣列饋電式大范圍波束掃描反射面天線，其特征在于，所述第一子陣饋源、第二子陣饋源與第三子陣饋源結構相同；在波束掃描方向上，子陣饋源的規模為n：2≤n≤5，饋源單元間距為S₁：0.9λ≤S₁≤λ；在與波束掃描方向正交的方向上，子陣饋源的規模為m：m＝4，單元間距為S₂＝0.5λ；λ為自由空間傳播時的工作波長。