[發明專利]蒸鍍控制方法及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201911230215.1
• 申請日: 2019-12-04
• 公開（公告）號: CN110938808B
• 公開（公告）日: 2021-12-21
• 發明（設計）人: 韓冬
• 申請（專利權）人: 廈門天馬微電子有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 劉廣達

本發明公開了一種蒸鍍設備及蒸鍍控制方法，包括真空腔體和位于真空腔體內部的坩堝；可移動擋板，所述可移動擋板在坩堝內部與坩堝上表面平行設置，用于盛放蒸鍍材料；氣壓監測裝置，所述氣壓監測裝置與所述真空腔體連接；氣壓傳動裝置，所述氣壓傳動裝置分別與所述氣壓監測裝置和所述可移動擋板連接，用于控制所述可移動擋板在坩堝內部向上或向下移動。通過在蒸鍍設備中增設可移動擋板、氣壓監測裝置和氣壓傳動裝置，由氣壓監測裝置和氣壓傳動裝置通過無縫精密聯動控制，來改變可移動擋板在坩堝內的移動方向和移動距離，以維持蒸汽壓強不變，達到蒸鍍速率恒定的目的，以避免溫度變化帶來對蒸鍍材料的影響，確保蒸鍍膜層光特性不失效。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，具體涉及一種蒸鍍控制方法及蒸鍍設備。

背景技術

真空蒸發鍍膜指的是在真空環境中，將蒸鍍材料加熱形成蒸汽，蒸汽通過掩膜版沉積在基板上，形成薄膜結構。為了提升鍍膜效率需要維持蒸鍍材料的蒸鍍速率恒定，而在蒸發過程中蒸鍍材料會逐漸減少，使得坩堝內部空間增大，而坩堝內部的蒸汽壓會隨著內部空間的增大而減小，進而使得蒸鍍速率下降。

在相關技術中，由于蒸鍍速率與坩堝的加熱溫度成正比，因此在蒸發過程中，隨著蒸鍍材料的減少，通過不斷的增加坩堝的加熱溫度以提高蒸鍍速率。

然而，用于鍍膜的蒸鍍材料屬于有機功能材料或發光材料，高溫會增加這種材料分解變質的幾率，導致蒸鍍到基板上的薄膜結構的光電特性較差，甚至失效。

發明內容

本發明的目的是針對上述現有技術的不足提出的一種蒸鍍控制方法及蒸鍍設備，該目的是通過以下技術方案實現的。

本發明的第一方面提出了一種蒸鍍設備，所述蒸鍍設備包括：

真空腔體和位于真空腔體內部的坩堝；

可移動擋板，所述可移動擋板在坩堝內部與坩堝上表面平行設置，用于盛放蒸鍍材料；

氣壓監測裝置，所述氣壓監測裝置與所述真空腔體連接；

氣壓傳動裝置，所述氣壓傳動裝置分別與所述氣壓監測裝置和所述可移動擋板連接，用于控制所述可移動擋板在坩堝內部向上或向下移動。

可選的，所述氣壓傳動裝置包括：氣源裝置、控制裝置以及執行機構；所述控制裝置分別與所述氣源裝置、所述執行機構及所述氣壓監測裝置連接；所述執行機構與所述可移動擋板連接。

可選的，所述氣源裝置包括空壓機和原動機；所述原動機，用于產生機械能；所述空壓機，用于將所述原動機產生的機械能轉換為壓力能，并將所述壓力能通過所述控制裝置傳遞給所述執行機構；所述執行機構，用于將所述壓力能轉換為機械能并輸出到可移動擋板上，以推動可移動擋板向上或向下移動。

可選的，所述控制裝置包括：壓力閥、流量閥、方向閥以及控制元件。

可選的，所述蒸鍍設備還可包括：補料裝置；所述補料裝置分別與所述氣壓傳動裝置、所述真空腔體連接。

本發明的第二方面提出了一種蒸鍍控制方法，所述方法應用于如上述第一方面所述的蒸鍍設備，所述方法包括：

氣壓監測裝置檢測坩堝內部的蒸汽壓強，并將所述蒸汽壓強發送至氣壓傳動裝置；

所述氣壓傳動裝置根據所述蒸汽壓強確定可移動擋板的移動距離和移動方向，并控制所述可移動擋板按照所述移動方向移動所述移動距離，以改變坩堝內部的蒸汽壓強。

可選的，所述氣壓傳動裝置根據所述蒸汽壓強確定可移動擋板的移動距離和移動方向，包括：所述氣壓傳動裝置中的控制裝置依據所述蒸汽壓強和預設的維穩壓強確定可移動擋板的移動方向；所述控制裝置利用所述蒸汽壓強確定可移動擋板與坩堝上表面之間需要保持的第一高度，并獲取當前可移動擋板與坩堝上表面之間的第二高度，依據所述第一高度與所述第二高度確定可移動擋板的移動距離。