[發明專利]對準誤差測量方法及裝置

有效

• 申請號: 201911212302.4
• 申請日: 2019-11-29
• 公開（公告）號: CN110824865B
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 李璟;楊光華;齊月靜;陳進新;盧增雄;折昌美
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種對準誤差測量方法，包括：

分別篩選每一預設位置下對準標記產生的一種以上衍射級次的衍射光束，得到每一所述預設位置下的+n衍射級次的衍射光束和-n衍射級次的衍射光束，所述預設位置的個數為四個及以上；

分別對每一所述預設位置下的+n衍射級次的衍射光束和-n衍射級次的衍射光束進行干涉，以將對準標記結構變化和波像差引入的相位變化編碼到產生的干涉信號中；

分別探測每一所述預設位置下的干涉信號的光強分布；

根據所述四個及以上預設位置下干涉信號的光強分布計算所述對準標記結構變化和波像差引入的對準誤差。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述分別對每一所述預設位置下的+n衍射級次的衍射光束和-n衍射級次的衍射光束進行干涉，包括：

利用衍射光闌分別對每一所述預設位置下的+n衍射級次的衍射光束和-n衍射級次的衍射光束進行干涉；

根據所述+n衍射級次的衍射光束、-n衍射級次的衍射光束和衍射光闌的透射函數產生所述干涉信號。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述分別探測每一所述預設位置下的干涉信號的光強分布，包括：

分別探測每一所述預設位置下的干涉信號在遠場的光強分布。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，所述分別探測每一所述預設位置下的干涉信號在遠場的光強分布，包括：

分別對每一所述預設位置下的干涉信號進行傅里葉變換；

分別計算每一所述預設位置下進行傅里葉變換后的干涉信號的光強分布。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述干涉信號的光強分布為：

其中，I(k_x)為預設位置為x時干涉信號的光強分布，C₁、C₂為常數，E_n、E_-n分別為+n衍射級次、-n衍射級次的衍射光束的振幅，Δψ_n為所述對準標記結構變化和波像差引入的總相位誤差，d為所述對準標記的周期，x為所述對準標記的位置。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，當所述預設位置的個數為四個時，所述預設位置分別為以及

7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述對準誤差為：

其中，Δx為所述對準誤差，Δψ_n為所述對準標記結構變化和波像差引入的總相位誤差，d為所述對準標記的周期，I₁、I₂、I₃、I₄分別為預設位置下干涉信號的光強分布。

8.一種對準誤差測量裝置，包括對準標記(7)、可變位置光闌(8)、衍射光闌(10)以及探測器(11)，其中：

所述對準標記(7)用于在每一預設位置下產生一種以上衍射級次的衍射光束；

所述可變位置光闌(8)用于分別篩選每一預設位置下對準標記(7)產生的一種以上衍射級次的衍射光束，得到每一所述預設位置下的+n衍射級次的衍射光束和-n衍射級次的衍射光束，所述預設位置的個數為四個及以上；

所述衍射光闌(10)用于分別對每一所述預設位置下的+n衍射級次的衍射光束和-n衍射級次的衍射光束進行干涉，以將對準標記結構變化和波像差引入的相位變化編碼到產生的干涉信號中；

所述探測器(11)用于分別探測每一所述預設位置下的干涉信號的光強分布，并根據所述四個及以上預設位置下干涉信號的光強分布計算所述對準標記結構變化和波像差引入的對準誤差。