[發(fā)明專利]一種散射膜及電子設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911199799.0 | 申請(qǐng)日： | 2019-11-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112886263A | 公開（公告）日： | 2021-06-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 蘇陟;高強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 廣州方邦電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01Q15/02 | 分類號(hào)： | H01Q15/02;H01Q15/14;H01Q19/06;H01Q19/10 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 510663 廣東省廣州市高*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 散射 電子設(shè)備 | ||
1.一種散射膜，其特征在于，包括導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層上開設(shè)有多個(gè)貫穿所述導(dǎo)電層的通孔，所述通孔可供電磁波通過，所述通孔的孔徑小于通過所述通孔的電磁波的波長(zhǎng)；
在所述導(dǎo)電層的至少一個(gè)預(yù)設(shè)方向上所述通孔的數(shù)量和/或孔徑呈連續(xù)變化的趨勢(shì)，所述預(yù)設(shè)方向?yàn)樗鰧?dǎo)電層表面內(nèi)的任意方向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，多個(gè)所述通孔呈陣列排布于所述導(dǎo)電層上，沿所述預(yù)設(shè)方向所述通孔的孔徑呈現(xiàn)中間大、兩邊小，或者中間小、兩邊大的變化趨勢(shì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，多個(gè)所述通孔呈陣列排布于所述導(dǎo)電層上，沿所述預(yù)設(shè)方向所述通孔的孔徑呈現(xiàn)連續(xù)增大或連續(xù)減小的變化趨勢(shì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，多個(gè)所述通孔呈陣列排布于所述導(dǎo)電層上，沿所述預(yù)設(shè)方向所述通孔的數(shù)量呈現(xiàn)中間多、兩邊少，或者中間少、兩邊多的變化趨勢(shì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，多個(gè)所述通孔呈陣列排布于所述導(dǎo)電層上，沿所述預(yù)設(shè)方向所述通孔的數(shù)量呈現(xiàn)連續(xù)增多或連續(xù)減少的變化趨勢(shì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，所述通孔內(nèi)填充有可供電磁波透射的介質(zhì)材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的散射膜，其特征在于，沿所述預(yù)設(shè)方向所述介質(zhì)材料對(duì)入射的電磁波的折射率呈現(xiàn)中間小、兩邊大的變化趨勢(shì)。
8.一種散射膜，其特征在于，包括導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層上開設(shè)有多個(gè)貫穿所述導(dǎo)電層的通孔，所述通孔可供電磁波通過，所述通孔的孔徑小于通過所述通孔的電磁波的波長(zhǎng)；
所述通孔內(nèi)填充有可供電磁波透射的介質(zhì)材料，在所述導(dǎo)電層的至少一個(gè)預(yù)設(shè)方向上所述介質(zhì)材料對(duì)入射的電磁波的折射率呈連續(xù)變化的趨勢(shì)，所述預(yù)設(shè)方向?yàn)樗鰧?dǎo)電層表面內(nèi)的任意方向。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的散射膜，其特征在于，沿所述預(yù)設(shè)方向所述介質(zhì)材料對(duì)入射的電磁波的折射率呈現(xiàn)中間小、兩邊大的變化趨勢(shì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的散射膜，其特征在于，還包括第一凸起結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述導(dǎo)電層的第一表面。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的散射膜，其特征在于，所述第一凸起結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凸部。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的散射膜，其特征在于，所述導(dǎo)電層的第一表面設(shè)置有絕緣層，所述第一凸起結(jié)構(gòu)伸入所述絕緣層。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的散射膜，其特征在于，還包括連接層，所述連接層設(shè)置于所述導(dǎo)電層的第二表面，所述第二表面為與所述第一表面相對(duì)的表面。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的散射膜，其特征在于，所述導(dǎo)電層的第二表面設(shè)置有伸入所述連接層的第二凸起結(jié)構(gòu)。
15.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-14任一項(xiàng)所述的散射膜，還包括天線裝置，所述天線裝置的一表面與所述散射膜連接。
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